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北京捷造光电技术有限公司

作品数：9 被引量：2H指数：1
相关机构：南开大学更多>>
发文基金：天津市科技支撑计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：航空宇航科学技术更多>>

合作机构

文献类型

  • 8篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 6篇电极
  • 5篇PECVD
  • 4篇气体
  • 4篇工艺气
  • 4篇工艺气体
  • 3篇镀膜
  • 3篇滚轮
  • 2篇带轮
  • 2篇点支撑
  • 2篇真空
  • 2篇同步带
  • 2篇同步带轮
  • 2篇气相沉积
  • 2篇基片
  • 2篇本体
  • 1篇镀膜工艺
  • 1篇性能研究
  • 1篇引流
  • 1篇真空管道
  • 1篇真空系统

机构

  • 9篇北京捷造光电...
  • 1篇南开大学

作者

  • 1篇张晓丹
  • 1篇王广才
  • 1篇赵颖

传媒

  • 1篇真空与低温

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2021
  • 5篇2019
  • 1篇2017
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
一种用于大面积PECVD基片传输结构
本发明公开了一种用于大面积PECVD基片传输结构,主要包括：滚轮通过螺钉固定在传输轴上，传输轴两端通过轴承座固定在真空室底板两侧的固定导轨上，传输轴一端通过键连接两个同步带轮，各传输轴上同步带轮通过同步带相连接，整个传输...
张迎春刘洁雅
文献传递
一种大面积硅片PECVD沉积装置
本发明公开了一种大面积硅片PECVD沉积装置，包括：处理室本体和处理室上盖界定的薄膜沉积所用的真空环境，真空系统藕接到所述处理室本体，压力控制系统控制处理室本体的薄膜沉积所需气体源供给工艺气体的准确流量，气源输送管路藕接...
张迎春赵永飞
一种气相沉积腔室
本申请公开一种气相沉积腔室，包括真空外腔室和真空内腔室均包括围合成相应腔室的腔壁，真空内腔室设置于真空外腔室的腔室内；真空外腔室和真空内腔室设置有与抽真空装置连接的真空管道；喷淋电极和下电极设置在真空内腔室的内部，下电极...
张迎春刘洁雅
文献传递
一种用于大面积PECVD工艺腔室双层排气结构
本发明公开了一种用于大面积PECVD工艺腔室双层排气结构,主要包括：真空外腔室和真空内腔室均包括围合成相应腔室的腔壁，真空内腔室设置于真空外腔室内；喷淋电极、下电极及基片设置于真空内腔室内，基片位于下电极上且位于喷淋电极...
张迎春刘洁雅
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一种大面积多区PECVD沉积装置
本发明公开了一种大面积多区PECVD沉积装置，包括：处理室本体和处理室上盖界定的薄膜沉积所用的真空环境，真空系统藕接到所述处理室本体，压力控制系统控制处理室本体的薄膜沉积所需气体源供给工艺气体的准确流量，气源输送管路藕接...
张迎春赵永飞
一种用于大面积PECVD基片传输结构
本发明公开了一种用于大面积PECVD基片传输结构,主要包括：滚轮通过螺钉固定在传输轴上，传输轴两端通过轴承座固定在真空室底板两侧的固定导轨上，传输轴一端通过键连接两个同步带轮，各传输轴上同步带轮通过同步带相连接，整个传输...
张迎春刘洁雅
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一种气相沉积反应装置
本发明公开一种气相沉积反应装置，包括：真空外腔室，真空内腔室，加热装置，加热引流结构，加热源；其中，所述真空外腔室及所述真空内腔室均包括围合成相应腔室的腔壁，所述真空内腔室设置于所述真空外腔室的腔室内；所述加热装置设置于...
张迎春刘洁雅
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一种用于PECVD反应区的伸缩式滚轮传输结构
PECVD设备反应区采用上述伸缩式滚轮结构用于工件载板的传输，所述滚轮转动传入工件；所述托针装置上升，顶起工件脱离滚轮；所述滚轮缩出反应区；所述托针装置下降，将工件下落至下电极上；工件在反应区完成镀膜工艺；所述托针装置上...
张迎春张源
文献传递
反应等离子沉积装置的性能研究被引量：2
2017年
反应等离子沉积方法具有离子轰击能量低、薄膜沉积时衬底温度低的特点,可应用于太阳电池、LED(OLED)等的高质量透明导电材料的制备,有利于获得高转换效率的太阳电池。对反应等离子沉积系统进行了研究,并在FLD08型RPD设备上,制备了掺钨透明氧化物IWO薄膜材料,获得了较好的结果。
杜荣池王广才张晓丹张迎春赵颖
关键词：透明导电膜
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