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国防科技技术预先研究基金(9140A10030606)

作品数:2 被引量:5H指数:2
相关作者:田忠廖家轩杨海光许江李恩求更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国防科技技术预先研究基金四川省应用基础研究计划项目更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇钛酸锶
  • 2篇钛酸锶钡
  • 2篇钛酸锶钡薄膜
  • 2篇钙钛矿结构
  • 1篇电性能
  • 1篇中频磁控溅射
  • 1篇铈掺杂
  • 1篇介电
  • 1篇介电性
  • 1篇介电性能
  • 1篇XPS研究
  • 1篇CE掺杂
  • 1篇掺杂
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇电子科技大学

作者

  • 2篇廖家轩
  • 2篇田忠
  • 1篇李恩求
  • 1篇傅向军
  • 1篇王洪全
  • 1篇张佳
  • 1篇许江
  • 1篇杨海光
  • 1篇潘笑风

传媒

  • 2篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2009
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
中频磁控溅射钛酸锶钡薄膜的结构及性能被引量:3
2007年
用中频磁控溅射制备了钛酸锶钡Ba0.6Sr0.4TiO3(简称MF-BST)薄膜,并对该薄膜进行原位晶化。XPS表明,MF-BST薄膜的表面成分Ba0.58Sr0.42Ti1.01O2.95和膜体成分Ba0.6Sr0.4TiO3接近,主要由钙钛矿结构的BST组成。AFM表明,MF-BST薄膜的表面光滑致密。XRD表明,MF-BST薄膜晶化完全,呈(111)择优。XTEM观察及XPS刻蚀表明MF-BST/Pt界面过渡层约2nm厚,含少量的TixPtyOz。MF-BST薄膜电容器具有高达1200的介电常数及低达10-9A/cm2的漏电流密度。同时,该薄膜的结构及介电性能与射频磁控溅射及非原位晶化的Ba0.6Sr0.4TiO3(简称RF-BST)薄膜进行了比较。
廖家轩李恩求田忠许江杨海光
关键词:中频磁控溅射钛酸锶钡薄膜钙钛矿结构
Ce掺杂Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜表面结构XPS研究被引量:2
2009年
用改进的溶胶-凝胶法制备铈(Ce)掺杂和非掺杂2种钛酸锶钡(Ba0.6Sr0.4TiO3,BST)薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)研究薄膜的表面结构。XPS结果表明,BST薄膜的表面结构由钙钛矿结构和非钙钛矿结构组成,铈掺杂显著地减少了非钙钛矿结构。扫描电镜及原子力显微镜观察表明,掺杂BST薄膜光滑致密无裂纹。电压-电容曲线表明,掺杂BST薄膜的介电性能大幅度提高,在40V外加电压下介电调谐率达60.8%,零偏压下的介电损耗为0.0265。同时,就非钙钛矿结构的成因及Ce掺杂BST薄膜的有关改善机制进行了讨论。
廖家轩潘笑风王洪全张佳傅向军田忠
关键词:铈掺杂钛酸锶钡薄膜钙钛矿结构介电性能
共1页<1>
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