河北省科技厅科研项目(07215105)
- 作品数:3 被引量:2H指数:1
- 相关作者:许佳玲曲蛟贾利云侯登录李晨璞更多>>
- 相关机构:河北建筑工程学院河北师范大学更多>>
- 发文基金:河北省科技厅科研项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学更多>>
- 退火温度对不连续多层膜磁性及微结构的影响
- 2007年
- 通过射频和直流磁控溅射方法和原位退火工艺将Fe颗粒嵌入绝缘SiO_2母体中制备了系列不连续金属绝缘体多层膜样品.研究发现,热处理温度对薄膜中的磁性颗粒分布和磁性能有很大的影响.通过扫描探针显微镜对样品的微结构进行了分析,发现在400℃时形成典型的不连续多层膜结构,磁性颗粒比较均匀的分散在母体当中.样品的磁性能测量结果显示该样品具有较好的磁性能.
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- 关键词:磁性微结构
- 退火温度对CoTiO_2微结构和磁特性的影响被引量:1
- 2008年
- 为了研究在稀释磁性半导体CoTiO2薄膜中不同退火温度对薄膜结构和磁性的影响,通过磁控溅射方法和原位退火工艺制备了CoTiO2薄膜样品。然后利用扫描探针显微镜以及振动样品磁强计对所制得的薄膜样品磁性和微结构的变化进行了研究。研究发现,热处理温度对薄膜的微结构和磁性能有很大的影响。扫描探针显微镜对样品的微结构分析结果表明,在400℃时磁性相的分布比较均匀,Co掺杂到TiO2结构当中且没有Co颗粒或团簇;振动样品磁强计测量样品的磁性能结果显示该样品具有明显的室温铁磁性。
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- 关键词:稀磁半导体磁性
- 对靶磁控溅射Co/TiO_2薄膜制备和表征被引量:1
- 2013年
- 为了研究稀磁半导体Co/TiO2薄膜的微观结构和磁性,进一步探讨制备工艺和测量方法对稀磁半导体薄膜材料的影响。通过高真空对靶直流磁控溅射装置和原位退火工艺制备了Co/TiO2薄膜样品,然后利用扫描探针显微镜、振动样品磁强计和X射线衍射仪对所制得的薄膜样品的磁性和微结构进行了研究,发现磁性金属Co的掺杂量对Co/TiO2薄膜的结构及磁性有重要影响。结果表明:样品的表面粗糙度和颗粒尺寸随磁性金属含量升高而增大;随着Co百分含量的升高,形成的薄膜样品Co/TiO2和Co金属混合结构会减小矫顽力;对于Co含量较低样品其磁滞回线的斜率在低温测量时得到的结果明显小于室温环境的结果,归因于受到了顺磁相的影响。由X射线衍射结果可知此时样品为锐钛矿结构。
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- 关键词:稀磁半导体磁性微结构