安徽省教育厅科学研究项目(2003kj025)
- 作品数：6 被引量：13H指数：2
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- 发文基金：安徽省教育厅科学研究项目国家自然科学基金安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>
- 氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响被引量：1
- 2004年
- 在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜。用光学干涉相移法和X射线衍射技术,对薄膜应力和微结构进行了测试分析。微结构分析表明:制备的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;氩气分压分别为1Pa和3Pa的Al膜相比,1Pa下制备的薄膜结晶程度明显优于3Pa下制备的薄膜。1Pa下Al膜平均晶粒尺寸随膜厚的增加由17.9nm逐渐增大到26.3nm;晶格常数由0.4037nm增大到0.4047nm,均比标准值0.40496nm稍小。应力分析表明:同一工作气体压强(氩气分压)下,Al膜的平均应力随着膜厚的增加变小,应力分布趋向均匀。相同时间1Pa和3Pa的Al膜,其微结构和应力有较大差别。
- 宋学萍孙兆奇
- 关键词：微结构应力
- 薄膜厚度对蒸发制备Cu膜内应力的影响被引量：1
- 2004年
- 文章采用电子薄膜应力分布测试仪 ,对薄膜厚度随 Cu膜内应力的变化进行了研究。同时用 X射线衍射 ( XRD)技术测量分析了薄膜的微结构以及 Cu膜的微结构对其应力的影响。研究结果表明 :随着薄膜厚度的增加 ,蒸发制备的 Cu膜内应力由张应力变为压应力 ,压力差也逐渐减小 ,且内应力分布随膜厚的增加趋于均匀 ,Cu膜结晶明显 。
- 李爱侠费振乐王翠平宋学萍
- 关键词：内应力薄膜厚度微结构
- 氩气分压与膜厚对溅射Al膜微结构及应力的影响
- 在不同氩气分压下,用直流溅射法在室温Si基片上制备了不同厚度的Al膜。用光学干涉相移法和X射线衍射技术,对薄膜应力和微结构进行了测试分析。微结构分析表明:制备的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;氩气分压分别为1P...
- 宋学萍孙兆奇
- 关键词：微结构应力
- 文献传递
- 溅射超薄Ag膜中的晶格畸变被引量：1
- 2006年
- 用直流溅射法制备了厚度从11.9到189.0 nm的超薄Ag膜。X射线衍射(XRD)分析表明:样品中的Ag均为面心立方多晶结构,粒径从6.3到14.5 nm。通过晶格常数的计算发现:晶格畸变为收缩,且随着粒径的减小收缩率增加,最大值为1.1%。结合不同方法制备纳米Ag材料的研究结果,讨论了影响晶格畸变的主要因素。
- 孙兆奇曹春斌宋学萍
- 关键词：晶格畸变
- Au-MgF_2复合纳米颗粒薄膜有效介质理论的颗粒尺寸效应修正被引量：2
- 2006年
- 在研究Au-MgF2复合纳米颗粒薄膜体系的光学行为时,Maxwell-Garnett理论及Bruggeman理论结果与实验结果之间存在一些差异,这些差异主要是由于Maxwell-Garnett理论及Bruggeman理论未考虑复合体系中金属纳米颗粒的尺寸效应。文章在考虑尺寸效应修正的基础上,得出了Maxwell-Garnett及Brugge-man理论结果;这些结果与实验值符合较好。
- 江锡顺曹春斌蔡琪宋学萍孙兆奇
- 关键词：有效介质理论
- Cu块材及Cu膜的光学常数研究被引量：5
- 2004年
- 用反射式动态椭圆偏振光谱技术对Cu块材、Cu薄膜及Cu厚膜的光学常数进行了测试分析。研究结果表明:与Roberts块材、Johnson厚膜数据相比,不同方法得到Cu的光学常数在谱线形状上基本相似,但在数值上存在一定差别;在波长为250～830nm范围内,Cu块材和膜的折射率n与消光系数k分别在0.1～1.5和1.5～5.0之间;随膜厚增加,n值增大,k值减小;厚膜的n、k值与块材的更为接近。同时讨论了光学常数与微结构的关系。
- 孙兆奇蔡琪何玉平宋学萍
- 关键词：光学常数椭偏光谱微结构光子器件
- 退火温度对溅射Al膜微结构及光学常数的影响被引量：3
- 2005年
- 用直流溅射镀膜工艺在室温Si基片上制备了250nm厚的Al膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术,对薄膜的微结构和光学常数在不同退火温度下的变化进行了测试分析。结构分析表明:退火后的Al膜均呈多晶状态,晶体结构仍为面心立方;随着退火温度由室温20℃左右升高到400℃,薄膜的平均晶粒尺寸由22.8nm增加到25.1nm;平均晶格常数(4.047)略比标准值4.04960小。椭偏光谱测量结果表明:2600～8300光频范围内,退火温度对折射率n影响较小,对吸收系数k的影响较为明显。
- 宋学萍王佩红孙兆奇
- 关键词：退火温度光学常数微结构平均晶粒尺寸镀膜工艺面心立方
