您的位置: 专家智库 > >

天津市自然科学基金(10JCYBJC03000)

作品数:5 被引量:23H指数:3
相关作者:郝秋艳李倩倩李英刘国栋谭小动更多>>
相关机构:河北工业大学中国科学院河北汉盛光电科技有限公司更多>>
发文基金:天津市自然科学基金河北省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电致发光
  • 1篇电子结构
  • 1篇应力
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇折叠
  • 1篇扫描电镜
  • 1篇子结构
  • 1篇稀土
  • 1篇稀土掺杂
  • 1篇纳米
  • 1篇结构和光学性...
  • 1篇缓冲层
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射功率
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性质
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光

机构

  • 4篇河北工业大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇河北汉盛光电...

作者

  • 2篇郝秋艳
  • 1篇唐成春
  • 1篇张书明
  • 1篇万尾甜
  • 1篇乔治
  • 1篇赵德刚
  • 1篇陈贵锋
  • 1篇刘国栋
  • 1篇张雯
  • 1篇刘彩池
  • 1篇李英
  • 1篇刘宗顺
  • 1篇朱建军
  • 1篇梅俊平
  • 1篇解新建
  • 1篇李倩倩
  • 1篇沈俊
  • 1篇谭小动
  • 1篇温迪
  • 1篇王敏

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇河北工业大学...
  • 1篇Chines...

年份

  • 2篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
纳米折叠InGaN/GaNLED材料生长及器件特性被引量:5
2011年
在以自组织Ni纳米岛为掩膜制作的n-GaN纳米柱上,利用MOCVD方法外延生长了具有折叠InGaN/GaN多量子阱(MQW)的LED结构外延片,进而制作了LED器件.外延片上中下游的光致荧光测试,结果表明外延片具有很好的均匀性.用该外延片制作的LED的电致发光谱,随注入电流增加没有明显蓝移,这表明纳米结构能更好地释放应力,纳米柱上外延生长的多量子阱,具有较低的压电极化电场.正向工作电流20mA时,LED器件的工作电压为4.6V.
陈贵锋谭小动万尾甜沈俊郝秋艳唐成春朱建军刘宗顺赵德刚张书明
关键词:光致发光电致发光
用于HIT太阳能电池的ITO薄膜制备与性能研究被引量:3
2013年
采用中频脉冲磁控溅射工艺制备ITO薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对薄膜性能的影响。通过对二者的优化,获得了方阻为2.99Ω/□,电阻率为1.76×10^-4Ω·cm,可见光波段(400—800nm)平均透过率为82.3%的ITO薄膜。将优化后的薄膜用于电池上,制出了转化效率为14.04%的HIT太阳能电池。
温迪雷青松乔治高美伶薛俊明张雯
关键词:ITO薄膜衬底温度溅射功率
缓冲层对外延生长GaN薄膜性能的影响被引量:2
2011年
用分子束气相外延生长(MBE)法,通过改变缓冲层AlN的生长时间沉积GaN薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱仪(Raman Spectroscropy),测试GaN薄膜的应力、平整度、粗糙度、晶体质量.研究了不同生长时间的缓冲层对GaN薄膜性能的影响,结果发现:生长30 min的缓冲层的样品B中的应力小于生长20 min缓冲层的样品A,并且样品B在晶体质量、平整度、粗糙度方面均优于样品A.
梅俊平王敏解新建刘彩池
关键词:GAN薄膜缓冲层应力原子力显微镜扫描电镜
Electrical and Optical Characterization of n-GaN by High Energy Electron Irradiation
2012年
The effect of high energy electron irradiation on the electrical and optical properties of n-GaN is studied.Hall and photoluminescence measurements are carried out on the samples irradiated with different doses.The results obtained from Hall measurements show that electron concentration and mobility are proportional to electron irradiation doses.The PL results show that the near-band-edge intensity and yellow luminescence intensity decrease continually with the increasing electron irradiation.However,it is found that the ratio of the yellow luminescence intensity to the near-band-edge intensity increases with the increasing of electron irradiation dose.To interpret this phenomenon,we propose two theoretical models based on the charge transport mechanism and rate equations,respectively,and they are in good agreement with the experimental observations.
LIANG Li-MinXIE Xin-JianHAO Qiu-YanTIAN YuanLIU Cai-Chi
关键词:INTENSITYYELLOWELECTRON
稀土元素(Ce,Pr)掺杂GaN的电子结构和光学性质的理论研究被引量:13
2013年
采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势法计算了稀土元素Ce,Pr掺杂GaN的晶格参数、能带、电子态密度和光学性质,使用LSDA+U的方法处理具有强关联作用的稀土4f态,并分析比较计算结果.计算表明:掺入Ce和Pr后的体系相比未掺杂的GaN晶格常数增大,带隙变窄,并分别在禁带中和价带顶附近引入了局域的杂质能级,该能级主要由Ce和Pr的4f电子提供;掺杂后都发生了磁有序化并产生磁矩;最后定性分析了掺杂前后介电函数和光吸收系数的变化,掺Ce的体系在介电函数和吸收系数的低能区出现了峰值,该峰的出现和禁带中的杂质能级到导带底的跃迁有关,而掺Pr的体系由于带隙变窄使介电峰和吸收边发生红移.
李倩倩郝秋艳李英刘国栋
关键词:GAN稀土掺杂电子结构光学性质
共1页<1>
聚类工具0