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二甲基亚砜中Dy和Co的电化学行为被引量：3: 2001年; 利用循环伏安法和计时电流法研究了室温下Dy和Co在二甲基亚砜中的电化学行为 :Dy (Ⅲ )和Co (Ⅱ )在Pt电极上分别为一步不可逆还原为Dy (0 ) ,Co (0 ) ;研究了不同浓度的支持电解质对Dy (Ⅲ )的传递系数的影响 ;测定并得到 0 0 1mol·dm-3 Dy (NO3 ) 3 +0 1mol·dm-3 LiClO4 +DMSO体系中Dy(Ⅲ )的扩散系数D0 =2 86× 10 -6cm2 ·s-1(2 98K)和传递系数α =0 14.在 0 0 2mol·dm-3 CoCl2 +0 486mol·dm-3LiClO4 +DMSO体系中Co(Ⅱ )的D0 =1 35× 10 -5cm2 ·s-1(2 98K)和α =0 2 4;并测出Dy(Ⅲ )和Co(Ⅱ )可在Pt电极上诱导共沉积生成Dy; 何凤荣王宇刘冠昆沙励嫦; 关键词：诱导共沉积电化学行为镝钴

二甲基亚砜溶剂中Y-Ni合金膜的制备被引量：7: 2000年; 利用循环伏安法和恒电位电解法研究了室温下在二甲基亚砜溶剂 (DMSO)中Y Ni功能合金膜的电沉积制备。结果表明 ,在YCl3 (0 .10mol·L-1) NiCl2 (0 .10mol·L-1) DMSO溶液中 ,控制电位在 - 1.15～ - 2 .5 0V范围内进行恒电位电解 ,可得到有金属光泽、附着力强的银灰色非晶态Y Ni合金膜 ,厚度约为 1.4μm。Y Ni合金膜中Y的含量在 3.5 %～ 80 %范围内随阴极电位的负移而增加。; 童叶翔刘冠昆何山王宇; 关键词：电沉积

二甲亚砜中电沉积La-Co合金膜的研究(英文): 2001年; 研究在非水溶剂二甲亚砜中电沉积Ｌａ－Ｃｏ合金膜．体系中加入柠檬酸为络合剂，聚乙醇－ｌ０００为添加剂，用于改善沉积层的质量．在沉积过程中，应用了恒电位电解技术和脉冲电解技术．所得Ｌａ－Ｃｏ合金膜的表面是光滑，致密，粘附性好和有金属光泽．恒电位电解技术沉积得到的Ｌａ－Ｃｏ合金膜中Ｌａ的质量分数是２２．４２％～５０．２９％．脉冲电解技术沉积得到的Ｌａ－Ｃｏ合金膜中Ｌａ的质量分数是１．４６％～４２．６３％．脉冲电解技术沉积得到的Ｌａ－Ｃｏ合金膜通过电镜观察发现金属粒子的大小约为１００ｎｍ．; 袁定胜黄开胜刘冠昆童叶翔; 关键词：二甲亚砜电沉积络合剂

DMSO中脉冲电沉积Y-Ni合金膜被引量：11: 2001年; 采用脉冲电沉积技术 ,在室温下的含YCl3和NiCl2 的二甲基亚砜 (DMSO)溶液中 ,沉积出含稀土元素Y的Y Ni合金薄膜。研究了影响镀层性能的工艺参数 ,包括脉冲频率、占空比、电流效率及Y在镀层中的含量与电流密度的关系 ,用X射线分析仪确定镀层的物相组成 ,用扫描电镜及能谱仪分析了合金镀层的组成及形态。发现 ,随着电流密度增大 ,合金镀层中的稀土Y含量增高。Y Ni合金薄膜具有非晶态结构。; 刘冠昆王小晗何山; 关键词：脉冲电沉积非水体系

二甲基甲酰胺中电沉积制备钐钴合金被引量：9: 2002年; Electrodeposition of Sm-Co alloy in DMF solution was studied by cyclic voltammetry and potentiostatic deposition at room temperature. The results show that small amount of water in a solution of Sm(NO 3) 3+CoCl 2+DMF blocked the electrodeposition of Sm-Co due to the formation of nonconductive Sm(OH) 3 film on the cathode surface. Citric acid could buffer the pH change and inhibit the precipitation of Sm(OH) 3 on the cathode surface which makes the co-deposition of Sm and Co easy. Potentiostatic deposition was carried out on copper electrode in Sm(NO 3) 3+CoCl 2+Citric acid+DMF solution and Sm-Co alloy films were obtained where the content of Sm could be as high as 57 56%.; 王宇何凤荣刘冠昆童叶翔; 关键词：稀土柠檬酸二甲基甲酰胺

二甲基甲酰胺中钬镍合金的电沉积被引量：19: 2001年; 研究了在二甲基甲酰胺 (DMF)体系中钬的电还原及钬与镍的电解共沉积 .结果表明，由于微量水在电极上还原形成不溶的导电性差的膜层，使钬单独沉积很困难 .恒电位电解用于制备钬镍合金， EDAX,SEM和 XRD用于分析镀层，得到了黑色粘附性好的非晶态钬镍合金镀层，钬的含量可高达 72.7％ .; 王宇刘冠昆何凤荣童叶翔; 关键词：二甲基甲酰胺合金镀层

在二甲亚砜中La-Fe合金膜电化学制备的研究被引量：6: 2001年; 研究了二甲亚砜 (DMSO)中La3+ 和Fe2 + 在Pt ,Cu和Ni电极上的电化学行为。Fe2 + 在Pt电极上一步不可逆还原为Fe ,La3+ 在Pt电极上表现为准可逆电极过程。在 2 98K时 ,利用循环伏安法测定了 0 0 1mol·L- 1 FeCl2 0 1mol·L- 1 LiCl DMSO溶液中Fe2 + 的扩散系数、传递系数分别为 2 5 4× 10 - 6 cm2 ·s- 1 和 0 2 4;利用计时电流法测定了 0 0 1mol·L- 1 LaCl3 0 1mol·L- 1 LiCl DMSO溶液中La3+ 的扩散系数为 3 10×10 - 6 cm2 ·s- 1 。在铜电极上于 -1 75 0～ -2 45 0V (vs .SCE)下恒电位电解 ,可获得La含量达 2 2 7%～ 3 7 1%的La Fe合金膜 ;应用脉冲电解技术于 2～ 6mA·cm- 2 也可获得La Fe合金膜。这些合金膜是均匀的。; 袁定胜刘冠昆童叶翔沙励嫦; 关键词：镧 DMSO 合金膜

二甲基亚砜中电沉积钬钴合金的研究被引量：17: 2001年; 研究了在二甲基亚砜中钬与钴的电解共沉积。测定循环伏安曲线获知钬钴共沉积的沉积电位较钴单独析出为负而较钬的析出为正 ,属于诱导共沉积类型。恒电位电解表明在一定浓度范围内电位是影响合金成分的主要因素 ,而镀液组成的影响较小。在 -1 8V下恒电位电解得到了均匀、致密的非晶态合金沉积层。; 王宇刘冠昆童叶翔; 关键词：诱导共沉积非晶态合金镀层

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广东省自然科学基金(960002)