国家高技术研究发展计划(2002AA305507)
- 作品数：12 被引量：39H指数：4
- 相关作者：韩杰才朱嘉琦孟松鹤郑伟涛李哲奎更多>>
- 相关机构：哈尔滨工业大学吉林大学延边大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国防科技技术预先研究基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 膜厚对非晶金刚石薄膜机械性能和拉曼表征的影响
- 四面体非晶碳薄膜一般采用激光、电弧和离子束等能量形式产生粒子束沉积而成,这就导致高应力与高性能相伴而生。高应力又限制了薄膜的稳定附着厚度,并制约其广泛应用。显然,弄清
- 韩杰方朱嘉琦
- 关键词：四面体非晶碳膜厚机械性能拉曼光谱
- 文献传递
- 非晶金刚石薄膜对温度的敏感性研究被引量：1
- 2007年
- 采用过滤阴极真空电弧技术制备非晶金刚石薄膜,在-190-600℃范围研究非晶金刚石薄膜的温度敏感性．利用液氮泵在Linkam试验台上冷却样品并实时采样,通过炉中退火实现样品加热．分别测试可见光拉曼光谱和纳米压痕,研究薄膜的微结构和机械性能的变化．实验表明:过滤阴极真空电弧制备的非晶金刚石薄膜具有较好的热稳定性．在空气中退火到400℃,其硬度和弹性模量基本保持不变,其结构可以一直稳定到500℃,但是到600℃,薄膜因为氧化作用而快速消耗．非晶金刚石薄膜的可见光拉曼光谱显示随着温度的升高,谱峰峰位向高频偏移．在低温冷却过程中,薄膜对温度变化不敏感,其结构保持不变．
- 朱嘉琦孟松鹤陈旺寿韩杰才
- 关键词：温度敏感性拉曼光谱
- 膜厚对四面体非晶碳膜机械性能的影响
- 采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在p(100)单晶硅村底上制备了不同厚度的四面体非晶碳薄膜,并利用表面轮廓仪测试薄膜的厚度和应力,利用纳米压入仪测试薄膜的硬度、杨氏模量和临界刮擦戢荷。试验表明,在一定的扫描波形条...
- 朱嘉琦孟松鹤韩杰才高巍
- 关键词：四面体非晶碳机械性能应力
- 文献传递
- 不同厚度四面体非晶碳薄膜的拉曼表征和内应力被引量：5
- 2006年
- 为了探讨膜厚对四面体非晶碳薄膜拉曼结构表征和内应力的影响规律,进而确定应力与拉曼光谱之间的关系,采用过滤阴极真空电弧技术以相同的工艺条件在P(100)单晶抛光硅衬底上制备了从3nm^350nm不同厚度的四面体非晶碳薄膜。利用表面轮廓仪和原子力显微镜测试膜厚,表面轮廓仪确定曲率半径并计算薄膜应力,共聚焦拉曼光谱表征薄膜的结构细节。实验发现,随着膜厚的增加,四面体非晶碳薄膜的应力持续下降,当膜厚超过30nm时,应力的下降趋势变得平缓,并保持在小于5GPa的较低水平。随着膜厚的增加,可见光拉曼光谱中衬底硅的一阶和二阶谱峰强度逐渐降低,在50nm^80nm膜厚范围,半高宽最窄,峰强最高,能够最有效地获得拉曼结构信息。随着膜厚的增加和应力的下降,非晶碳一阶谱峰的峰位表现为逐渐向低频偏移。
- 朱嘉琦韩杰才高巍孟松鹤
- 关键词：四面体非晶碳拉曼光谱应力
- 非晶金刚石与非晶碳化锗复合增透保护膜系的设计与实现被引量：3
- 2006年
- 为了有效保护硫化锌等红外光学元件并提高其在工作波段的透过率,根据薄膜光学原理进行增透设计,从而获得膜系光学参数;采用射频磁控溅射技术制备非晶碳化锗薄膜,通过调整甲烷流速比调整薄膜的折射率,根据流速比和沉积时间控制膜厚,再用过滤阴极真空电弧技术制备非晶金刚石薄膜,分别改变衬底偏压和沉积时间控制薄膜的折射率和膜厚.利用光谱椭偏仪和台阶仪表征薄膜折射率和膜厚,通过小角X射线反射和X射线光电子谱测试非晶金刚石薄膜的密度和非晶碳化锗薄膜中的锗含量,使用纳米压痕仪和傅里叶红外透射谱仪确定薄膜的硬度和红外透过率.试验表明,非晶金刚石和非晶碳化锗薄膜的折射率分别与薄膜的密度和薄膜中的锗含量密切相关,非晶金刚石与非晶碳化锗复合膜系是硫化锌等红外光学元件性能优异的增透保护膜.
- 朱嘉琦韩杰才胡超权郑伟涛韩潇孟松鹤
- 关键词：光学性能
- 不同入射离子能级下四面体非晶碳微观结构与电子结构研究
- 由基底偏压所决定的入射离子能量是过滤阴极真空弧(FCVA)系统沉积薄膜的关键因素之一。为了研究离子能量对于薄膜性质的影响,本文从实验和理论两个方面进行了探讨分析。首先由FCVA系统得到基底偏压为0-2000 V的五组样品...
- 郑冰郑伟涛朱嘉琦
- 文献传递
- 基底偏压对BN薄膜场发射特性的影响(英文)
- 2005年
- 利用射频磁控溅射方法,在n型(100)Si基底上沉积了氮化硼薄膜(BN).通过分析电流密度 电场强度曲线,发现BN薄膜的场发射特性与基底偏压影响很大,基底偏压为-140V时BN薄膜样品场发射特性要好于其它样品,阈值电场低于8V/μm.F N曲线表明:电子是通过隧道效应克服BN薄膜表面势垒发射到真空的.
- 顾广瑞王剑飞李哲奎郭振平
- 关键词：场发射偏压粗糙度
- 不同能级加速过滤电弧沉积四面体非晶碳膜的结构和性能被引量：11
- 2004年
- 采用过滤阴极真空电弧技术 ,通过施加 0— 2 0 0 0V衬底负偏压使沉积离子获得不同能级的入射能量 ,在单晶硅上制备了四面体非晶碳薄膜 .拉曼光谱分析表明 ,薄膜的结构为非晶sp3 骨架中镶嵌着平面关联长度小于 1nm的sp2 团簇 .原子力显微镜研究表明 :在低能级、富sp3 能量窗口和次高能级 ,薄膜中sp3 的含量越多 ,其表面就越光滑 ,应用sp3 浅注入生长机制能够圆满地解释薄膜表面形态与离子入射能量之间的关系 ;但在高能级 ,具有适当入射能量的离子对表面将起到溅射平滑作用 ,甚至可以得到比sp3 含量最高时均方根粗糙度更低的光滑表面 .纳米压入测试表明 ,高能 (-2 0 0 0V)沉积的四面体非晶碳膜具有比不加偏压时更高的硬度和杨氏模量 ,并具有比sp3
- 朱嘉琦王景贺孟松鹤韩杰才张连生
- 关键词：四面体非晶碳拉曼光谱分析能级分布
- 高能球磨Al-Y_2O_3粉体固相反应制备YAG陶瓷的研究被引量：2
- 2008年
- 用高纯Al粉体和Y_2O_3粉体(Al-Y_2O_3粉体)为原料采用固相反应法制备了YAG陶瓷.Al-Y_2O_3粉体高能经过球磨,煅烧生成YAG粉体,再真空烧结制备高致密YAG陶瓷.采用DTA-TG对球磨Al-Y_2O_3粉体进行分析,采用XRD、SEM对球磨的Al-Y_2O_3粉体、YAG粉体及YAG陶瓷进行了表征.实验表明:Al-Y_2O_3粉体在～569℃时,Al粉强烈氧化,并与Y_2O_3粉反应,600℃煅烧出现YAM相,随煅烧温度升高出现YAP相,1200℃煅烧生成YAG粉体.成型YAG素坯在1750℃保温2h真空烧结出YAG相陶瓷,YAG陶瓷相对密度可达98.6%,晶粒生长均匀,晶粒尺寸为8～10μm.
- 李长青张明福左洪波韩杰才孟松鹤
- 关键词：高能球磨ALY2O3DTA-TGYAG
- 红外窗口与整流罩的雨蚀研究进展被引量：4
- 2006年
- 评述了高速雨滴对红外透波窗口与整流罩的冲蚀磨损行为及其特殊表面载荷的应力波传播形式、损伤裂纹类型和力学机制,介绍了雨蚀损伤的影响因素及评测方法和指标,指出了当前高速雨滴对红外透波窗口与整流罩的冲击磨蚀行为的研究方向.
- 韩潇朱嘉琦韩杰才孟松鹤吕适强
- 关键词：红外窗口整流罩损伤阈值冲蚀磨损
