国家重点实验室开放基金(SKLTKE10B04)
- 作品数：4 被引量：16H指数：2
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- 相关领域：金属学及工艺机械工程更多>>
- CeO_2/SiO_2复合磨粒抛光性能及机制研究被引量：1
- 2014年
- 为提高硅片抛光质量与效率,利用均相沉淀法制备CeO2/SiO2复合磨粒,配制绿色环保水基型抛光液对硅片进行化学机械抛光,研究pH值、抛光时间、抛光速度、抛光压力等抛光工艺参数对硅片抛光性能的影响。结果表明:随抛光液pH值增加,材料去除率相应增大;材料去除率在一定时间范围内随抛光时间增加而下降;材料去除量随抛光速度、抛光压力的增加均先增大后减小。推测CeO2/SiO2复合磨粒抛光机制为由于水合作用,在硅片表面形成一层易于磨削的软质层。
- 张强黄国栋赵永武赵元元王永光
- 关键词：化学机械抛光硅片
- CeO_2@SiO_2复合磨料的制备被引量：3
- 2014年
- 以SiO2颗粒为内核,通过均相沉淀法制备出包覆结构的CeO2@SiO2复合磨料,研究了CeO2的含量、反应时间、煅烧温度对制备CeO2@SiO2复合磨料的影响.结果表明:六水硝酸亚铈的加入量为7.02g时,复合磨料包覆均匀,分散性好,粒谷大小合适;反应时间为2h时,复合磨料的结构基本形成;煅烧温度为500℃,复合磨料的粒径分布范围小,形状呈圆形.并通过X射线衍射仪(XRD)、纳米激光粒度仪等对制备的样品进行了表征.
- 赵治安倪自丰卞达杨大林黄国栋王永光赵永武
- 关键词：煅烧温度
- 工艺参数对SUS304不锈钢抛光速度与抛光质量的影响被引量：10
- 2015年
- 为提高不锈钢的抛光质量与效率,配制新型环保不锈钢抛光液,对SUS304不锈钢进行化学机械抛光。研究压力载荷、抛光时间、抛光线速度、p H值等工艺参数对不锈钢抛光性能的影响,结果表明,SUS304不锈钢在最佳的工艺参数组合下,可以达到最佳的抛光效果。
- 张强赵永武
- 关键词：化学机械抛光SUS304不锈钢材料去除率
- 表面活性剂含量对氧化铈/氧化硅复合磨料分散性的影响被引量：2
- 2012年
- 以乙醇为溶剂及表面活性剂,以氨水为催化剂,利用正硅酸乙酯的水解得到氧化硅颗粒,并分析乙醇质量分数对制备的氧化硅颗粒以及氧化铈/氧化硅复合磨料分散性的影响。结果表明:水解体系中乙醇质量分数为71%时制备的氧化硅颗粒基本呈球形,粒径分布范围大,呈少量单分散状态;乙醇质量分数为92%时制备的氧化硅颗粒呈球形,粒径分布均匀,表面光滑,呈单分散状态;乙醇质量分数为96%时制备的氧化硅颗粒粒径分布范围大,并且小颗粒团聚一体,聚集到大颗粒上。基于理想的氧化硅颗粒,利用化学沉淀法制备CeO2/SiO2复合磨料,并通过透射电子显微镜(TEM)及X射线衍射仪(XRD)对制备的样品进行表征。结果表明,制备的CeO2/SiO2复合磨料为球形,粒径为150～250 nm,具有草莓状核壳的包覆结构,作为抛光磨料可以提高抛光表面质量。
- 赵元元赵永武王永光
- 关键词：包覆纳米微球分散性
