国防科技技术预先研究基金(1042ZK1001)
- 作品数：12 被引量：70H指数：5
- 相关作者：冯晓国赵晶丽刘小涵梁凤超胡君更多>>
- 相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院研究生院长春理工大学更多>>
- 发文基金：国防科技技术预先研究基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术航空宇航科学技术理学更多>>
- 凹球面涂布光刻胶均匀性研究被引量：6
- 2009年
- 通过对离心法在凹球面上涂布光刻胶过程进行分析,阐明了离心状态下光刻胶在凹球面基底上的流动机理,结合试验提出影响凹球面涂布光刻胶膜厚均匀性的主要因素有胶液粘度、旋涂速度、旋涂时间,列举了以上因素引起的各种现象,并进行了理论分析。引用凹球面旋涂光刻胶的膜厚公式,建立了膜厚与速度关系数学模型;利用流体力学原理解释了有限圆形空间中流体速度对膜层均匀性的影响,从而解决了大曲率凹球面上制备微细图形结构的关键工艺问题,对非球面上制备微细图形具有借鉴作用。
- 赵晶丽王惠卿冯晓国梁凤超
- 关键词：光刻胶涂胶旋涂
- 同心扫描法制作凹球面等距网栅的误差分析被引量：2
- 2006年
- 纬线与纬线相交可形成球面等距网栅,而采用“同心扫描”的运动方式可在凹球面上生成纬线。“同心扫描”要求直写物镜光轴、直写物镜水平转轴、工件回转轴和工件分度轴四轴交于工件凹面球心。采用两两相交误差几何分析的方法,得到了同心误差与离焦量和栅距误差的变化关系:随着同心误差增加,系统离焦量和栅距误差也增加,且二者的变化趋势基本一致。因为网栅线宽一般要求达到微米量级,与之匹配的栅距则往往为几百微米,所以栅距误差与栅距相比可以忽略,系统离焦量对网栅线宽的影响却必须认真考虑。采用几何光学基本公式对物镜系统的进一步分析表明,为了制作细且均匀的网栅线条,必须采用小光斑,而小光斑对应的焦深也小,从而要求离焦量小,对同心误差要求严格;反之,则可放宽对同心误差的要求。
- 冯晓国卢俊徐峰林孙连春
- 关键词：滤波器电磁屏蔽光刻球面
- 航天光学遥感器多单元并行实时通信仿真测试被引量：2
- 2008年
- 设计了航天光学遥感器多单元并行实时通信仿真测试系统的体系结构及组成,阐述应用了航天光学遥感器内部多单元的通信机制与控制原理;提出了利用计算机检测与仿真技术结合,在通信控制电路基础上实现对相机内部单元并行的、实时的通信的新方法。通过对航天光学遥感器内部多单元实时通信原理分析和测试实验,以数理逻辑、信息技术和系统技术为基础,构造了航天光学遥感器内部多单元并行实时通信的半实物模型。应用高性能工业计算机与串行通信控制电路,以智能控制技术为指导搭建起仿真测试系统,经过测试实验证明,系统准确达到对航天光学遥感器内部多单元并行实时通信过程的仿真和检测要求,满足了对航天光学遥感器内部多单元运行状态长时间、高精度、高频率的实时监控。
- 马岩胡君吴伟平王海萍
- 关键词：实时通信仿真测试
- K9基底细薄铜网上的化学镀镍被引量：4
- 2010年
- 为进一步提高高通光率网栅的电磁屏蔽性能,满足其环境适应性要求,针对线宽约9μm、膜厚约0.3μm、周期为400μm×400μm的细薄铜网进行了镀镍工艺实验。首先,经涂胶、直写、显影、镀铜、去胶等工序,在K9基底上制备出细薄铜网栅试件。然后,对试件超声波除油,用10%的HCl溶液浸泡试件10～15 s进行镀前活化处理。接着,将试件放入按成分要求配制好的化学镀镍溶液中,在恒温85℃条件下化学镀镍40～60 min。最后,从化学镀镍溶液中取出试件,放入烘箱烘干,缓慢冷却至室温。实验结果显示:得到的试件镀层均匀、结合力强;用同轴法测试网栅化学镀镍后的电磁屏蔽效能达到32 dBm,比未镀镍前提高了11 dBm,且试件镀镍工艺导致的在400～800 nm波段的平均透过率下降小于1%。这些结果表明,在细薄铜网上能够镀制较好的镍层,可以在基本不影响光学透过率的前提下显著提高其电磁屏蔽效能和环境适应性。
- 刘小涵冯晓国赵晶丽高劲松
- 关键词：电磁屏蔽屏蔽效能化学镀镍
- 降低感性网栅膜表面电阻的方法被引量：2
- 2012年
- 在线宽、周期不变(相同透光率)的前提下,增加网栅厚度才能降低网栅的表面电阻,从而进一步提高球面网栅的电磁屏蔽性能。首先推导了网栅厚度、表面电阻和电磁屏蔽效能之间的数学关系,接着开展了膜层增厚的化学镀镍工艺实验。实验结果表明:球面铜网栅上可以得到厚度均匀、结合力牢固的镍磷合金镀层,面电阻由50Ω降至15Ω。经天线法测试,在200 MHz～18 GHz波段,镀镍球面金属网栅膜屏蔽效能平均达到46 dB,比未镀镍前平均提高了8 dB,而球面网栅试件镀镍前后,在400～900 nm波段透过率均为88%。镀镍前后透过率基本相同时,镀后表面电阻迅速降低,电磁屏蔽效能得到了显著提高。
- 刘小涵徐念喜赵晶丽冯晓国申振锋张宏胜
- 关键词：表面电阻电磁屏蔽屏蔽效能表面电阻化学镀镍
- 激光直写凹球面网栅的电控实现被引量：12
- 2006年
- 凹球面网栅激光直写系统采用同心结构，应用调节角速度的控制算法以及周期纬线纬纬相交形成网栅的图形结构，确保激光直写光斑在不同的纬度以不同角速度扫描，始终保持线速度和曝光量恒定，实现了在凹球面上以恒定曝光量激光直写网栅。分析了网格周期、角速度和纬线弧长等关键参数，设计了控制程序。在通光孔径60mm的普通玻璃凹球面上进行了多组激光直写试验，设定周期450～800μm，线速度1～20mm／s，经显影、定影后由微米级读数显微镜测得网格实际周期与设定周期误差在±3％以内，原子力显微镜测得线宽小于5μm。结果表明：采用同心结构及稳光、调速控制保证凹球面网栅激光直写系统的曝光量不变，线条侧壁陡直、平行，具有较好的均匀性，满足了设计要求。
- 梁凤超胡君续志军
- 关键词：激光直写PMAC
- 基于CCD成像单元仿真测试系统的实时性实现被引量：7
- 2008年
- 依据某型号航天光学遥感器内部系统通信协议,在CCD成像单元仿真测试系统的基础上,提出了一种利用计算机检测与仿真技术结合,以计算机算法控制为核心,以通信控制电路为基础的实时性实现的新方法。阐述了航天光学遥感器CCD成像单元仿真测试系统的工作原理及功能;分析了CCD成像单元仿真测试系统实时性需求,并应用微秒级精度的定时器对实时显示时间和实时存储时间进行定时测试,经过实验证明,该方法满足预定的实时通信要求,实现了仿真测试环境下的实时性显示与存储,完成了对航天光学遥感器内部遥感器控制单元的检测。
- 马岩胡君吴伟平
- 关键词：仿真测试实时性
- 临界角法激光直写聚焦伺服系统静态特性研究被引量：3
- 2011年
- 为同时提高金属网栅屏蔽效率及红外透过率,要求激光直写线条细且均匀。而工件面型误差、光刻胶涂布不均匀性、机械轴系误差等会造成写入焦斑离焦,影响线条线宽及均匀性。需引入聚焦伺服系统来实时探测并补偿离焦,确保写入光束实时聚焦在光刻胶面上。给出了临界角法调焦的原理,搭建了由探焦光路、离焦信号前放、压电陶瓷微位移执行机构组成的聚焦伺服系统,进行了离焦误差静态特性实验研究。实验结果表明:系统的静态分辨力为±40 nm,线性范围为±5μm,均满足设计要求。
- 梁凤超
- 关键词：隐身技术激光直写自动调焦伺服系统
- 金属网栅结构参数设计与制作被引量：23
- 2005年
- 研究了金属网栅结构参数对其光电特性的影响,并通过工艺实验结果测试,验证了分析计算成果.实验采用清洗、涂胶、光刻、显影、镀膜、去胶、电镀工艺流程,并用激光直写曝光代替掩模投影曝光.在MgF2基底上制作出线宽7 μm,周期400 μm的金属网栅,在3～5 μm波段上透过率大于75%(基底透过率为83%)、电磁屏蔽效率大于8 dB.结果表明:采用等效电路模型分析雷达波垂直入射时金属网栅屏蔽效率;用等效膜理论分析斜入射对屏蔽效率的影响是有效和简便的,通过遮拦比分析中心零级能量变化来说明金属网栅对红外透过的影响;金属网栅的光电特性的矛盾可以通过减小网栅线宽与周期的比值来解决,网栅周期与屏蔽波段密切相关,因此减小线宽对于满足其光电性能要求更为重要.
- 冯晓国方梁孙连春
- 关键词：电磁屏蔽透明导电膜
- 高透光率感性网栅膜的电磁屏蔽被引量：14
- 2012年
- 在确保制作感性网栅膜后光学窗红外透射率下降小于5%的前提下,研究了影响感性网栅膜电磁屏蔽特性的主要因素。归纳了感性网栅膜红外透射率公式,运用含阻抗边界条件的谱域Galerkin法推导了周期结构金属网栅的电磁场积分方程,用周期矩量法计算出网栅的反射系数及透射系数,进而求出其电磁屏蔽效能;计算并分析了采用不同线宽、周期、衬底材料、衬底厚度时透明导电光窗(金属网栅膜)的电磁屏蔽效能。最后,采用激光直写、真空镀膜等工艺在ZnS基底上制作了周期为360μm×360μm、线宽为12μm,方块电阻分别为13Ω、25Ω的样片,采用自由空间法测试了2～18GHz频段的电磁屏蔽效能。测试与分析结果表明:当感性网栅膜在8～10μm波段引起的平均透射率下降小于2%的情况下,电磁屏蔽效能平均达到了20dB以上。结果显示网栅的光电特性是矛盾的,线宽与周期越小电磁屏蔽效果越好,同时应尽量降低网栅的表面电阻。
- 刘小涵赵晶丽冯晓国申振峰高劲松张红胜
- 关键词：电磁屏蔽矩量法
