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教育部留学回国人员科研启动基金(413175)

作品数:7 被引量:56H指数:4
相关作者:王吉会杨静李群英杨亚群房大然更多>>
相关机构:天津大学更多>>
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相关领域:一般工业技术金属学及工艺机械工程更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 5篇一般工业技术
  • 2篇机械工程

主题

  • 5篇合金
  • 3篇微弧氧化
  • 3篇镁合金
  • 3篇耐蚀
  • 3篇耐蚀性
  • 2篇性能研究
  • 2篇氧化膜
  • 2篇易熔合金
  • 2篇熔点
  • 2篇微弧氧化膜
  • 2篇硫化
  • 2篇硫化钼
  • 2篇结合力
  • 2篇二硫化钼
  • 2篇MOS
  • 1篇电解液
  • 1篇钎焊
  • 1篇钎焊接头
  • 1篇微弧氧化膜层
  • 1篇无铅

机构

  • 7篇天津大学

作者

  • 7篇王吉会
  • 4篇杨静
  • 2篇杨亚群
  • 2篇李群英
  • 1篇李顺成
  • 1篇房大然
  • 1篇刘振华
  • 1篇张爱平
  • 1篇夏扬

传媒

  • 2篇天津大学学报
  • 1篇润滑与密封
  • 1篇材料开发与应...
  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇材料热处理学...
  • 1篇兵器材料科学...

年份

  • 3篇2006
  • 4篇2005
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
Bi-Pb-Sn-Cd易熔合金的设计与性能研究被引量:4
2005年
根据铋基合金的特点与合金相图,设计了不同成分的Bi Pb Sn Cd易熔合金;并利用差热分析仪、X射线衍射仪及力学检测设备等研究了成分对合金熔点、组织和抗拉强度的影响。结果表明,设计的易熔合金由Bi、Pb7Bi3、Sn和Cd等物相组成;合金的熔点均在72℃左右。随Cd、Bi元素含量的增加,液相线温度逐渐降低;Cd元素对合金熔程、抗拉强度的影响最大,Sn元素次之,Pb元素的影响最小。正交试验表明,Bi 30Pb 15Sn 9Cd合金的综合性能最佳。
王吉会杨亚群李群英李顺成刘振华
关键词:易熔合金钎焊接头熔点抗拉强度
Bi-Sn-In控温易熔合金的设计与性能被引量:2
2006年
在Bi-Sn、Bi-In、Sn-In二元相图的基础上,设计出系列Bi-Sn-In控温易熔合金,并对合金的熔点、相组成和钎焊接头的力学性能进行了研究。结果表明:低铟含量的Bi-Sn-In合金由Bi、-βSn和InBi相组成;随Sn、In含量的增加,易熔合金的相组成向BiIn、BiIn2和γ(InSn4)转化;合金的固相线、液相线随Bi含量或Bi/In的增大而提高,且当Sn含量(质量分数)为17%时合金的液相线最低;易熔合金的硬度随Bi含量或Bi/In的增加而线性增大,但随Sn含量、In含量的增加而降低;提高合金的Sn含量和Bi/In,可使合金钎焊接头的剪切和抗拉强度得到明显的改善;42.6Bi-17.0Sn-40.4In合金的熔点、熔程和钎焊接头的力学性能与50.0Bi-25.0Pb-2.5Sn-12.5Cd伍德合金相当,符合72℃自动灭火洒水喷头感温元件的要求。
王吉会杨亚群李群英李顺成刘振华
关键词:无铅焊料易熔合金熔点力学性能感温元件
镁合金在硅酸盐体系中微弧氧化膜层的性能研究被引量:16
2006年
利用交流微弧氧化装置对AZ91D镁合金在硅酸盐体系中进行了微弧氧化处理,并通过扫描电镜、电化学测试技术和表面性能测试仪等研究了氧化时间和电流密度对微弧氧化膜层表面形貌、厚度、耐蚀性、摩擦磨损性能和结合力的影响。结果表明:随氧化时间和电流密度的增大,镁合金微弧氧化膜层中微孔的数量减少,但微孔的直径和表面粗糙度增大。膜层厚度随氧化时间和电流密度的增加呈线性增大,但与基体的结合力明显降低。镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性和耐磨性随氧化时间和电流密度的增大呈先增大后减小的趋势。镁合金在硅酸盐体系中微弧氧化处理的最佳工艺为氧化时间40min、电流密度0.20A/cm2。
王吉会杨静
关键词:微弧氧化耐蚀性结合力
磁控溅射MoS_2薄膜的生长特性研究被引量:11
2005年
利用非平衡磁控溅射技术制备出二硫化钼薄膜,并通过扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了工作气压和沉积时间对薄膜表面形貌和结构的影响及其演化规律。实验结果表明,在小于0.40 Pa的气压下,沉积MoS2薄膜的(002)面平行于基体表面,而在高于0.60 Pa的高气压下,膜层的(002)面垂直于基体表面。在沉积初期,无论工作气压的高低,薄膜均按(002)基面的方式生长;在沉积后期,低气压下形成的薄膜仍按(002)基面方式生长,而在高气压下薄膜将转向以(002)基面与(100)或(110)棱面联合的方式生长。薄膜的表面形貌、微观结构,与薄膜的生长速率和沉积粒子的能量有关。
王吉会杨静
关键词:磁控溅射二硫化钼
镁合金微弧氧化的电解液组分研究被引量:19
2005年
利用交流微弧氧化装置对AZ91D镁合金在1组分、2组分、3组分和4组分电解液中进行了微弧氧化处 理,并通过电化学测试技术研究了微弧氧化处理后膜层的耐蚀性能.实验结果表明:能显著提高镁合金耐蚀性能的 微弧氧化电解液,多为含NaAlO2组分的碱性溶液;电解液中添加H2O2和C4H4O6Na2等组分,可进一步提高膜层的 耐蚀性.微弧氧化处理后,膜层表面光滑、均匀、致密,并由尖晶石结构的MgAl2O4相和MgO相组成.NaAlO2组分的 存在,能与膜层中的MgO相在微弧氧化过程中一起烧结形成具有尖晶石结构的MgAl2O4耐蚀相,从而提高镁合金 的耐蚀性能.
王吉会房大然杨静
关键词:镁合金微弧氧化电解液耐蚀性
沉积条件对MoS_2薄膜生长特性的影响被引量:3
2005年
利用非平衡磁控溅射技术、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和质谱仪等仪器研究了不同靶材、基体电流密度、靶电源特性和基体偏压等条件下二硫化钼薄膜的表面形貌、结构和生长特性。试验结果表明,在低密度冷压靶材、低电流密度、直流双脉冲电源和负偏压下,MoS2薄膜倾向按(002)平行于基体表面的层状方式生长;而在高密度热压靶材、高电流密度、单一直流脉冲电源和正偏压条件下,薄膜将以(002)基面与(100)、(110)棱面联合或以棱面为主的方式进行生长。沉积条件对MoS2薄膜生长特性的影响,是通过改变沉积速率和沉积粒子的能量而实现的。
王吉会张爱平夏扬
关键词:二硫化钼
铝酸盐体系中镁合金微弧氧化膜的性能被引量:5
2006年
利用交流微弧氧化装置对铝酸盐体系中的AZ91D镁合金进行了微弧氧化处理,并通过扫描电镜、表面性能测试仪和电化学测试技术等研究了氧化时间和电流密度对微弧氧化膜层表面形貌、厚度、耐蚀性、摩擦磨损性能和结合力的影响.实验结果表明,随着氧化时间和电流密度的增大,在铝酸盐体系中镁合金微弧氧化膜层表面微孔的数量减少,但微孔直径和表面粗糙度增大.微弧氧化膜层的厚度约为4~16μm;膜层与基体的结合力均在20N以上.微弧氧化膜层的耐磨性和耐蚀性随氧化时间和电流密度的增大呈先升高后降低的趋势.镁合金在铝酸盐体系中微弧氧化处理的最佳工艺为氧化时间40min、电流密度0.20A/cm^2.
王吉会杨静
关键词:微弧氧化耐蚀性结合力
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