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辽宁省自然科学基金(20071083)

作品数：1 被引量：10H指数：1
相关作者：李岩高航张振宇康仁科郭东明更多>>
相关机构：大连理工大学更多>>
发文基金：辽宁省自然科学基金国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：机械工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程

主题

  • 1篇碲锌镉
  • 1篇晶体
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇功能晶体
  • 1篇CDZNTE

机构

  • 1篇大连理工大学

作者

  • 1篇郭东明
  • 1篇康仁科
  • 1篇张振宇
  • 1篇高航
  • 1篇李岩

传媒

  • 1篇机械工程学报

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
软脆功能晶体碲锌镉化学机械抛光被引量：10
2008年
采用直径为2～5μmα型Al_2O_3研磨剂和自行研制的均匀分布的5 nm抛光球抛光液,进行研磨—机械抛光—化学机械抛光新工艺对Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te(111)、Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(110)和Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)单晶片进行了精密抛光研究,并对Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)单晶片采用研磨—机械抛光—化学腐蚀传统加工方法进行了对比研究。采用传统加工方法加工的Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)表面有很多的腐蚀沟、嵌入硬质颗粒和较大划痕;而采用新工艺后Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te(111)单晶片表面光滑,无加工缺陷;Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(110)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒,有较浅的腐蚀坑和轻微的划痕:Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)表面光滑,无任何嵌入硬质颗粒、腐蚀坑,有非常少的极轻微的隐约可见的小划痕。Cd_(0.9)Zn_(0.1)Te(111)、Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(110)和Cd_(0.96)Zn_(0.04)Te(111)单晶片表面化学机械抛光后表面粗糙度R_a分别为2.196nm,3.145nm,3.499nm。
张振宇郭东明康仁科高航李岩
关键词：CDZNTE化学机械抛光
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