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国家自然科学基金(90406009)
作品数:
1
被引量:12
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相关作者:
林罡
张琨
刘刚
王晓平
田扬超
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相关机构:
中国科学技术大学
南京电子器件研究所
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发文基金:
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相关领域:
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田扬超
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林罡
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电子显微学报
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2006
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电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用
被引量:12
2006年
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形。随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值。本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例。
张琨
林罡
刘刚
田扬超
王晓平
关键词:
电子束光刻
微纳加工
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