您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(2006AA804803)

作品数:1 被引量:8H指数:1
相关作者:王毕艺蒋晓东袁晓东田东斌赵松楠更多>>
相关机构:电子科技大学中国工程物理研究院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇双层膜
  • 1篇椭偏仪

机构

  • 1篇电子科技大学
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 1篇吕海兵
  • 1篇郭袁俊
  • 1篇徐世珍
  • 1篇祖小涛
  • 1篇赵松楠
  • 1篇田东斌
  • 1篇袁晓东
  • 1篇蒋晓东
  • 1篇王毕艺

传媒

  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2008
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
ZrO2/SiO2双层膜膜间渗透行为初步研究被引量:8
2008年
用溶胶-凝胶技术,采用提拉镀膜法在K9玻璃基片上镀制了ZrO2/SiO2双层膜和SiO2/ZrO2双层膜,研究了这两种膜层之间的渗透问题。用X射线光电子能谱仪(XPS)测量了薄膜的成分随深度方向的变化,用反射式椭偏仪对X射线光电子能谱仪测得的实验结果进行模拟与验证。结果表明,用X射线光电子能谱仪测得的实验结果建立的椭偏模型,模拟出来的椭偏曲线和用椭偏仪测量出来的椭偏曲线十分吻合;对于ZrO2/SiO2双层薄膜,膜层间的渗透情况不是很严重,在薄膜界面处薄膜的成分比变化非常明显,到达一定深度后薄膜的成分不再随深度的变化而变化;SiO2/ZrO2双层膜膜层界面间的渗透十分严重,渗透层的深度比较大,底层几乎发生了完全渗透。
王毕艺蒋晓东袁晓东祖小涛赵松楠郭袁俊徐世珍吕海兵田东斌
关键词:椭偏仪
共1页<1>
聚类工具0