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江西省教育厅科学技术研究项目(GJJ13639)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:朱华万文琼况慧芸冯晓炜更多>>
相关机构:景德镇陶瓷学院更多>>
发文基金:江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇透射
  • 2篇透射率
  • 2篇微结构
  • 2篇溅射
  • 2篇薄膜微结构
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电阻率
  • 1篇氧流量
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇光电
  • 1篇光电性
  • 1篇光电性能
  • 1篇ZAO薄膜
  • 1篇ZNO
  • 1篇

机构

  • 2篇景德镇陶瓷学...

作者

  • 2篇冯晓炜
  • 2篇况慧芸
  • 2篇万文琼
  • 2篇朱华

传媒

  • 2篇人工晶体学报

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
氩氧流量对ZAO薄膜微结构及其光学性能影响被引量:2
2013年
运用射频磁控溅射技术,改变氩氧流量比在玻璃衬底上生长ZnO∶Al(ZAO)样品,采用XRD、紫外-可见分光光度计对薄膜微结构、厚度及其光学性能表征,结果发现:维持氩流量不变(9 sccm),随着氧流量增加(1~9 sccm),样品XRD峰强减小,半高宽增大,晶粒尺寸减小,薄膜结晶性能变差;而维持氧流量不变(9 sccm),氩流量减小(9~3 sccm),样品XRD峰强增大,半高宽减小,晶粒尺寸变大,结晶性能变好。紫外可见光光谱在400~900nm波长区间平均透射率差异大(67.9%~91.1%);在420~900 nm波长区间平均透光率高且差异小(90.2%~92.4%)。
朱华万文琼况慧芸冯晓炜
关键词:透射率磁控溅射
工作压对射频磁控溅射ZAO薄膜微结构及光电性能影响的研究被引量:1
2013年
运用射频磁控溅射技术,改变工作压(3~10 Pa)在玻璃衬底上生长透明导电ZnO∶Al(ZAO)样品,采用XRD、紫外-可见分光光度计、霍尔效应测量仪及SEM对薄膜微结构、厚度及其光电性能表征。结果发现:随着工作压增大,样品XRD曲线由多峰转变为(002)单峰,峰强变大半高宽减小,晶粒尺寸由10.01 nm增大到13.46 nm,薄膜结晶性能变好;紫外可见光光谱在400~760 nm波长区间平均透射率均在85%以上,且在400 nm以下均有吸收边峰出现,样品带隙宽度随工作压增加有蓝移现象,样品厚度随工作压增加从1085 nm减小到781 nm。样品电阻率随工作压从3~6 Pa增加由0.5×10-4Ω·cm增大到35×10-4Ω·cm,在6~10 Pa区间有减小趋势。
朱华万文琼况慧芸冯晓炜
关键词:ZAO薄膜透射率电阻率
共1页<1>
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