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国家教育部博士点基金(2003008003)

作品数:5 被引量:12H指数:2
相关作者:于广华滕蛟冯春李宝河韩刚更多>>
相关机构:北京科技大学北京工商大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电子能
  • 2篇电子能谱
  • 2篇多层膜
  • 2篇多层膜结构
  • 2篇光电子能谱
  • 2篇TI
  • 2篇X射线
  • 2篇X射线光电子...
  • 2篇AG
  • 2篇磁性
  • 2篇磁性薄膜
  • 1篇真空
  • 1篇真空热处理
  • 1篇铁磁
  • 1篇扩散
  • 1篇反铁磁
  • 1篇NIO
  • 1篇PT
  • 1篇BI
  • 1篇CU

机构

  • 5篇北京科技大学
  • 1篇北京工商大学

作者

  • 5篇于广华
  • 4篇冯春
  • 4篇滕蛟
  • 3篇李宝河
  • 2篇韩刚
  • 1篇姜勇
  • 1篇刘泉林
  • 1篇王立锦
  • 1篇杨钰
  • 1篇杨涛
  • 1篇腾蛟

传媒

  • 3篇物理学报
  • 1篇稀有金属
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 2篇2006
  • 3篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
不同底层(Ag,Ti,Cu,Pt)对[Fe/Pt]n多层膜磁性的影响被引量:1
2005年
利用磁控溅射的方法,在热玻璃基片上制备了[Fe/Pt]n多层膜,经不同温度真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜(L10-FePt)。实验结果表明:[Fe/Pt]n多层膜结构可使FePt薄膜的有序化温度由500℃降到350℃,350℃退火20 min后其平行膜面矫顽力可达到421.8kA.m-1。同时以Ag,Ti,Cu和Pt做底层,利用[Fe/Pt]n多层膜结构制备了FePt薄膜,磁性和X射线衍射结果表明:与[Fe/Pt]n多层膜相比,四种底层均没有进一步降低FePt薄膜的有序化温度,其中Ag做底层对[Fe/Pt]n多层膜退火后的平行膜面矫顽力影响较小,但能够提高其垂直磁各向异性;其他底层均会降低[Fe/Pt]n多层膜在高温退火时的平行膜面矫顽力,且对其垂直磁各向异性无改善作用。
冯春李宝河滕蛟于广华
关键词:多层膜结构
Ag和Ti底层对[Fe/Pt]_n多层膜有序化的影响被引量:8
2005年
利用磁控溅射的方法,在热玻璃基片上制备了以Ag,Ti,Cu,Cr,Pt和Ta为底层的[Fe/Pt]n多层膜,后经不同温度真空热处理,得到L10有序结构的FePt薄膜(L10-FePt).实验结果表明,以Ag和Ti为底层,通过采用基片加温,同时利用[Fe/Pt]n多层膜结构,可以促进FePt薄膜的有序化过程,使FePt-L10有序化温度从500℃降低到350℃.在较高的温度下退火,以Ag为底层对薄膜的磁性能影响较小,而以Ti为底层在高于500℃退火后,矫顽力明显下降.在400℃退火20min后,以Ag和Ti为底层的样品平行膜面的矫顽力分别达到597kA/m和645kA/m,剩磁比分别达到0·81和0·94,为将来FePt-L10有序相合金薄膜用于未来超高密度磁记录介质打下基础.
冯春李宝河滕蛟杨涛于广华
关键词:多层膜结构TIAG真空热处理
超薄Fe层在反铁磁NiO(001)面上沉积的研究被引量:1
2006年
通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)方法,将1—10个Fe原子层(ML)以楔形方式沉积到反铁磁单晶NiO(001)基片上.表面磁光克尔效应的原位测试结果表明:通过MBE沉积的Fe原子层在FeNiO界面处产生了约2ML的磁死层;而通过PLD沉积的Fe原子层在FeNiO界面处产生了约3ML的磁死层.X射线光电子能谱对FeNiO界面进行研究的结果表明,在Fe原子与单晶NiO间发生了界面化学反应.
王立锦滕蛟于广华
关键词:磁性薄膜X射线光电子能谱
Bi底层对FePt薄膜的影响被引量:3
2006年
利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.
冯春李宝河韩刚滕蛟姜勇刘泉林于广华
关键词:扩散
不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响
2005年
通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1~10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种低能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约2 ML的磁死层;而通过PLD这种较高能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约3 ML的磁死层.X射线光电子能谱(XPS)研究Fe/NiO界面的结果表明:两种沉积方式都能使Fe原子与单晶NiO在界面处发生化学反应,这是导致磁死层的一个重要原因;对于MBE和PLD沉积方式来说,从靶材上被蒸发或溅射下来到达基片的原子所具有的能量很低,分别约为0.1 eV和1.0 eV,反应层较浅;磁控溅射沉积Fe原子的能量约为几~十几电子伏特,导致的反应深度约1.5 nm.
于广华杨钰冯春韩刚腾蛟
关键词:磁性薄膜X射线光电子能谱
共1页<1>
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