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国家自然科学基金(61078075)

作品数:3 被引量:6H指数:2
相关作者:刘红婕孙来喜黄进程强陈庆红更多>>
相关机构:中国工程物理研究院电子科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇熔石英
  • 2篇损伤阈值
  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇氧空位
  • 1篇应力
  • 1篇预应力
  • 1篇真空紫外
  • 1篇阈值
  • 1篇激光
  • 1篇激光辐照
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇光辐照
  • 1篇NEAR
  • 1篇RESIDU...
  • 1篇RESIDU...
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇ANSYS
  • 1篇BIREFR...

机构

  • 2篇中国工程物理...
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 2篇黄进
  • 2篇孙来喜
  • 2篇刘红婕
  • 1篇叶鑫
  • 1篇徐世珍
  • 1篇郭德成
  • 1篇吴卫东
  • 1篇周晓燕
  • 1篇王凤蕊
  • 1篇周信达
  • 1篇蒋晓东
  • 1篇耿峰
  • 1篇陈庆红
  • 1篇程强

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇Chines...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
预应力对熔石英损伤的影响被引量:4
2013年
采用ANSYS进行形变一应力模拟。对不同应力状态下的熔石英表面进行三倍频激光损伤测试,结果发现,预加压应力为0~50MPa时损伤阈值有明显提高的趋势,用应力耦合作用对此给出了解释:O~50MPa的预加压应力可以降低和抵消激光辐照产生的张应力破坏,大于50MPa预应力的耦合作用会使得该处机械性能下降,另外,损伤增长在预应力存在时更容易发生。因此,0~50MPa预加压应力时的表面预应力可以提高熔石英的抗激光辐照能力。
陈庆红徐世珍黄进孙来喜郭德成程强刘红婕蒋晓东
关键词:熔石英预应力ANSYS损伤阈值
Residual stress near cracks of K9 glass under 1 064-nm nanosecond laser irradiation
2013年
We present the birefringence measurements induced in K9 specimen by cracks produced by 1 064-nm Nd:YAG laser. The birefringence data are converted into units of stress, permitting the estimation of residual stress near cracks. The laser parameters and characterization of the optical material influence the value of residual stress. Residual stress in optical materials can affect fracture; thus, this factor should be considered in any formulation that involves enhanced damage resistance of optical components used in laser-induced damage experiments. The probability of the initial damage and the direction of the energy dissipation in cracks determine the residual stress distribution. Moreover, thermal-stress coupling enlarges the asymmetry of residual stress distribution. Therefore, the physical mechanism of asymmetric damage is useful for understanding the nature of optical materials under high-power laser irradiation.
张振刘红婕黄进周晓燕程新路蒋晓东吴卫东郑万国
关键词:BIREFRINGENCE
真空紫外激光辐照对熔石英表面氧空位的影响被引量:2
2014年
在真空环境下利用紫外脉冲激光对熔石英元件表面进行了低于损伤阈值的辐照,通过X射线光电子能谱对激光诱导的表面氧空位进行了精细表征。研究结果表明:在10-3Pa的高真空环境下熔石英表面易受紫外激光激励形成低结合能的O1s(531 e V),这种非稳定结构在后续紫外脉冲激光辐照下会出现Si-O键断裂从而产生氧空位,氧空位产生的程度取决于激光脉冲能量、发次以及真空度,且对熔石英元件的抗损伤性能有显著的负面影响。
黄进周信达周晓燕耿峰刘红婕王凤蕊孙来喜叶鑫吴卫东
关键词:X射线光电子能谱熔石英损伤阈值氧空位
共1页<1>
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