中央级公益性科研院所基本科研业务费专项(421060272467)
- 作品数:3 被引量:2H指数:1
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- 相关领域:理学金属学及工艺更多>>
- CrN/SiN_x纳米多层膜的热稳定性研究
- 2010年
- 利用反应磁控溅射方法制备了一系列不同调制比的多晶CrN/SiNx纳米多层膜.对多层膜在900℃条件下进行真空退火4个小时.结果发现,当调制周期中SiNx的层厚较小时,退火后发生了明显的界面融混;而当调制周期中SiNx层厚较大时,退火后不但没有发生界面融混,反而使界面变得更加清晰,这一变化和界面处CrSiN相的析出有关,相的析出有利于界面的平滑和多层膜热稳定性的提高.
- 安涛郑伟涛王丽丽
- 关键词:纳米多层膜
- 沉积温度对TiN/SiN_x多层膜结构及力学性能的影响
- 2010年
- 采用反应磁控溅射方法,在不同沉积温度条件下制备了一系列多晶TiN/SiNx纳米多层膜,并用X射线衍射仪(XRD)、X射线反射仪(XRR)及纳米压痕仪(Nanoindenter)表征了材料的微观结构及力学性能。结果表明,沉积温度对多层膜的界面结构、择优取向及力学性能有显著影响:当沉积温度为室温时,多层膜的界面较高温条件下粗糙;而多层膜的择优取向在沉积温度为400℃时呈现强烈的TiN(200)织构;多层膜的硬度及弹性模量在室温至400℃温度范围内变化不大。
- 安涛
- 溅射压强对TiN/SiN_x纳米多层膜微观结构及力学性能的影响被引量:2
- 2011年
- 利用磁控溅射方法在不同溅射压强条件下制备了TiN/SiNx纳米多层膜.多层膜的微观结构及力学性能分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪来表征.结果表明随着溅射压强的增大,多层膜的界面变模糊,TiN层的择优取向由(200)晶面过渡到(111)晶面.与此同时,多层膜的表面粗糙度增大,硬度和弹性模量随溅射压强的增大而减小.多层膜力学性能的差异主要是由于薄膜的周期性结构及致密度存在差异所致.
- 安涛王丽丽文懋郑伟涛
- 关键词:表面形貌