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中国科学技术大学青年基金(KA2310000007)

作品数：1 被引量：3H指数：1
相关作者：吕凡付绍军裴元吉吴晓伟尉伟更多>>
相关机构：中国科学技术大学更多>>
发文基金：中国科学技术大学青年基金国家大科学工程国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇微腔
  • 1篇刻蚀
  • 1篇光学
  • 1篇光学微腔
  • 1篇硅刻蚀
  • 1篇干法刻蚀
  • 1篇SIO
  • 1篇XEF
  • 1篇XEF2

机构

  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 1篇肖云峰
  • 1篇韩正甫
  • 1篇尉伟
  • 1篇吴晓伟
  • 1篇裴元吉
  • 1篇付绍军
  • 1篇吕凡

传媒

  • 1篇中国科学技术...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
XeF_2对SiO_2/Si的干法刻蚀被引量：3
2009年
XeF2是一种可以在常温下与硅发生反应的气体,可用作对硅进行干法刻蚀的工作气体,其对硅刻蚀特性呈现各向同性.研制了一个使用脉冲法对二氧化硅/硅体系进行XeF2刻蚀的系统,刻蚀系统简单且操作容易.利用该系统成功地刻蚀出"蘑菇状"的SiO2/Si结构,得到的刻蚀选择比大于1000.
尉伟吴晓伟吕凡肖云峰付绍军裴元吉韩正甫
关键词：XEF2硅刻蚀光学微腔
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