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pH和取代基团对席夫碱电化学氧化还原的影响: 2011年; 合成了5种不同结构的席夫碱(N-苯基苯甲亚胺、具有—OH基团的N-苯基-2-羟基苯甲亚胺和N-(2-羟基)苯基苯甲亚胺、具有—NO_2基团的N-苯基-4-硝基苯甲亚胺和N-(4-硝基)苯基苯甲亚胺).利用循环伏安法对5种席夫碱水溶液在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究.同时考察了pH对席夫碱—CH=N—基团的电化学氧化还原反应的影响.结果表明:这5种席夫碱的—CH=N基团都可以在玻碳电极上被还原,且是一个电化学上不可逆的过程;席夫碱结构上具有不同的取代基团(—OH和—NO_2)和同一取代基团在席夫碱不同的位置上(与碳端相连苯环、与氮端相连苯环)对—CH=N—基团的电化学还原都有较大的影响;而在不同pH缓冲溶液中,H^+浓度对5种席夫碱的—CH=N—基团还原也有一定的影响;进而推断出席夫碱在玻碳电极上的电化学还原机理是—CH=N—基团上先在N原子上先得到一个电子,后在C原子上得到一个电子,再得到两个H^+的过程.; 朱延松田晓华辛广; 关键词：席夫碱玻碳电极循环伏安

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鞍山市科技计划项目(20081102)