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国家自然科学基金(50271004)

作品数:5 被引量:29H指数:3
相关作者:李刘合陈秋龙蔡珣徐晔张彦华更多>>
相关机构:上海交通大学北京航空航天大学香港城市大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市科委纳米专项基金更多>>
相关领域:一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇复合膜
  • 2篇离子注入
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米复合膜
  • 2篇溅射
  • 2篇工艺参
  • 2篇工艺参数
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇TI-SI-...
  • 1篇电场
  • 1篇电子聚焦
  • 1篇多弧离子镀
  • 1篇性能研究
  • 1篇正交
  • 1篇正交试验
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇实时监控
  • 1篇梯形图

机构

  • 6篇北京航空航天...
  • 4篇上海交通大学
  • 3篇香港城市大学

作者

  • 7篇李刘合
  • 3篇徐晔
  • 3篇蔡珣
  • 3篇陈秋龙
  • 2篇张彦华
  • 2篇魏志国
  • 2篇朱剑豪
  • 1篇梁爱凤
  • 1篇徐鸣
  • 1篇陈畑畑
  • 1篇尹蓝
  • 1篇胡亚伟
  • 1篇蔡荀
  • 1篇武咏琴
  • 1篇翁海峰
  • 1篇郭善伟
  • 1篇刘佑铭
  • 1篇沈耀
  • 1篇朱建豪

传媒

  • 4篇新技术新工艺
  • 1篇上海交通大学...

年份

  • 1篇2007
  • 4篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
5 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
Ti/TiN复合膜工艺优化及性能研究被引量:2
2006年
利用正交试验和极差分析方法,分析了多弧离子镀Ti/TiN复合膜中工艺参数(弧电流、氮气分压、基体负偏压、钛过渡层厚度)对Ti/TiN复合膜的纳米硬度和膜与基体的结合力的影响及主次关系,并通过正交试验对工艺参数进行了优化。研究表明,氮气分压和弧电流是影响Ti/TiN复合膜纳米硬度的2个最主要因素,膜层与基体的结合力随着弧电流的增加而下降;升高基体负偏压,虽然可以提高Ti/TiN复合膜纳米硬度和膜与基体的结合力,但是高负偏压将急剧升高基体温度,可能导致基体退火;沉积一定厚度的钛过渡层可以显著提高TiN膜层与基体的结合力。
魏志国李刘合张彦华
关键词:多弧离子镀正交试验
一种新型离子注入方法——电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入研究
本文提出了一种新型的等离子体基离子注入方法——电子聚焦电场增强辉光等离子体离子注入,介绍了该方法的基本结构和基本原理,采用该方法,进行了硫元素的离子注入,采用X射线光电子能谱深度剥层分析的方法测量了注入硫的深度分布, 并...
李刘合梁爱凤尹蓝朱剑豪
关键词:离子注入电场
文献传递
TiN膜的制备和进展被引量:14
2004年
论述了TiN薄膜的常用制备方法,工艺参数对膜结构、性能等的影响,展望了TiN薄膜制备的进一步发展趋势。
武咏琴李刘合张彦华胡亚伟刘佑铭蔡荀
关键词:TIN薄膜力学性能工艺参数
通过PC-PLC实现的复合离子注入机实时监控被引量:1
2005年
在PLC广泛应用于工业控制的背景下,希望对应用于表面改性处理的复合离子注入机进行实时监控,阐述了控制系统的工作原理以及所实现的监测和控制功能,介绍了采用LG公司的MASTERK200S系列PLC在该系统中进行的硬件及软件设计方法等,开发出基于PCPLC的复合离子注入机的实时控制系统。
郭善伟李刘合蔡珣陈秋龙徐晔翁海峰徐鸣李刘合
关键词:PLC控制系统实时监控梯形图
Ti-Si-N纳米超硬膜的研究进展被引量:10
2006年
随着现代工业对材料表面涂层的要求不断提高,Ti-Si-N膜以其独特的纳米复合结构、超硬性及其他优异的力学性能成为研究的热点。本文综述了Ti-Si-N纳米复合膜的制备工艺以及工艺参数对Ti-Si-N膜的微观结构与力学性能的影响。
徐晔蔡珣陈秋龙沈耀李刘合
关键词:纳米复合膜微观结构工艺参数
直流磁控溅射Ti-Si-N超硬纳米复合膜的结构与力学性能被引量:4
2007年
采用Ti-Si复合靶在321不锈钢基体上用直流磁控反应溅射方法制得超硬纳米复合Ti-Si-N膜层,并借助能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、X光电子谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、纳米压入仪和划痕仪对膜层的成分、结构和力学性能进行了分析.结果表明:随着膜层中Si含量的增加,Ti-Si-N膜的硬度逐渐升高,当a(Si)=11.2%时达到峰值42 GPa;随着Si含量的进一步增长,膜层硬度开始下降.XRD和XPS结果显示,最硬的Ti-Si-N膜层包含大小约为8 nm的TiN纳米晶以及包围在其周围的非晶态Si3N4.XRD结果显示,随着Si的引入,膜层中TiN晶粒的择优取向由纯TiN膜层中的(111)变为Ti-Si-N膜层中的(200).划痕实验也显示了Si的添加对膜层结合力的影响.最后对该纳米复合膜的强化机制进行了探讨.
徐晔李刘合蔡珣陈秋龙朱建豪
关键词:微结构结合力
新型全方位注入沉积复合镀膜方法设备研究
针对磁控溅射、真空阴极电弧沉积技术、全方位离子注入等现有表面改性技术的适用范围和优缺点,本文介绍了一种新型的复合型全方位注入+沉积表面改性方法以及根据该方法研制的SAC-Ⅰ型全方位注入沉积复合镀膜设备,设备充分利用非平衡...
李刘合魏志国陈畑畑张骁朱剑豪
关键词:全方位离子注入磁控溅射
文献传递
共1页<1>
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