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教育部“优秀青年教师资助计划”(CUGQNL0837)

作品数：1 被引量：6H指数：1
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相关领域：自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇抛光
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇机器人
  • 1篇工业机器人

机构

  • 1篇中国地质大学

作者

  • 1篇孙明
  • 1篇韩光超

传媒

  • 1篇华中科技大学...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
基于轨迹控制的机器人抛光工艺被引量：6
2009年
针对普通商用工业机器人的封闭控制结构难以实现在线控制的特点,采用软质抛光工具来降低快速制模工艺中机器人抛光的轨迹误差.为了获得稳定的抛光压力,在机器人抛光轨迹规划的基础上,通过轨迹调整,对软质抛光工具的弹性变形和抛光过程磨损进行有效补偿.实验结果表明:当轴向预压量为1.0 mm时,每隔175 mm的抛光间距进行轴向补偿0.1 mm,即可获得稳定的抛光压力和均匀的抛光过程.
韩光超孙明
关键词：工业机器人抛光
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