江西省新余市自然科学基金(2008zrkxjj03)
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
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- 直流磁控溅射制备太阳光谱选择性吸收TiN薄膜被引量：1
- 2010年
- 以直流反应磁控溅射方法作为制备手段,选择Ti为靶材,以氩气作为工作气体、氮气为反应气体,在Si(111)基底上制备太阳光谱选择性吸收薄膜TiN,使之具有较好的光谱选择吸收特性。研究发现:在其它工艺参数保持不变的情况下,溅射气压在0.35～1.50Pa范围内,都能制备出(200)择优取向的立方相TiN。而当溅射气压为0.35Pa时沉积的薄膜致密、均匀,色泽金黄,膜厚为132nm,结晶性最好,电阻率最低为33.8μΩ·cm(接近块体氮化钛电阻率)。在可见-近红外光区(波长400～1000nm)的平均吸收率α=0.83,最高红外反射率R=0.90。通过对膜层结构、膜厚、吸收率及反射率的分析,制备的TiN薄膜光谱选择性吸收特性良好,具有很高的应用价值。可用于太阳集热器的吸热表面,并可直接作为光热转换建筑材料。
- 付淑英
- 磁控溅射TiN薄膜及其性能研究
- 2010年
- 以直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上制备薄膜TiN.研究发现:在保持其他工艺参数不变的条件下,溅射气压在0.3～1.3 Pa范围内,薄膜的主要成分是(111)择优取向的立方相TiN.当溅射气压为0.5 Pa时,沉积的薄膜膜层致密均匀,色泽金黄,膜厚为115.8 nm,结晶性能好.在可见光区半透明而在红外光区呈高反射,红外反射率为90%,具有良好的太阳光谱选择性.
- 付淑英
- 关键词：磁控溅射反射率
- 溅射气压对磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响被引量：2
- 2010年
- 采用直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上沉积了氮化钛薄膜。研究了在溅射沉积过程中,改变腔体气压对所制备的薄膜结构及性能的影响。研究发现:在保持其它工艺参数不变的条件下,沉积的TiN薄膜在不同溅射气压下生成的物相不同,薄膜的主要成分是立方相TiN,薄膜的结晶均显示出明显的TiN(200)择优取向。在腔体气压为0.5 Pa时出现的TiN(200)衍射峰最强、择优取向最明显。随着腔体气压的增加,薄膜厚度变小,而衍射峰则呈减弱的趋势,TiN薄膜的生长可能无择优取向。当腔体气压为0.35 Pa时,膜层致密均匀,没有大尺寸缺陷且粗糙度好,薄膜的结晶度最好,表面也最光滑,在测试波长范围内对光的平均反射率最大,可满足光学薄膜质量方面的要求。
- 付淑英
- 关键词：氮化钛薄膜磁控溅射溅射气压光学性能
- 太阳光谱选择性吸收薄膜研究综述被引量：6
- 2009年
- 近年来,中高温太阳光谱选择性吸收薄膜的研究及其在工业上的应用成为人们日益关注的焦点。太阳光谱选择性吸收薄膜是中高温太阳能集热器的核心部件,是太阳能光热转换中极为重要的关键材料,也是提高光热转换效率的重要手段,国内外关于各种太阳光谱选择性吸收薄膜或涂层的研究方兴未艾,这也是当前太阳能热利用中的前沿课题。
- 付淑英柳碧清李荣
- 关键词：太阳能光热转换太阳光谱
