河南省高校杰出科研人才创新工程基金(2006KYCX001)
- 作品数：5 被引量：18H指数：2
- 相关作者：张平余王智张玉娟刘建立吴志申更多>>
- 相关机构：河南大学河北建材职业技术学院更多>>
- 发文基金：河南省高校杰出科研人才创新工程基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程理学一般工业技术更多>>
- 磁过滤阴极弧法TiN薄膜的制备及其微观机械性能研究被引量：2
- 2007年
- 采用“S”型磁过滤阴极弧等离子体沉积技术,室温下在(111)面单晶硅上沉积氮化钛薄膜。采用AFM和XRD技术分别对薄膜的表面形貌和晶体择优取向进行了表征,并用微刻划的方法分析薄膜的微观机械性能。结果表明,薄膜表面光滑致密,随偏压的增大,表面颗粒粒径先增大后减小,并且从(111)面的择优取向转变成(220)面。在刻划实验中,随载荷增加,薄膜先后经历了完全弹性变形,弹-塑性变形和脆性断裂阶段。利用直接和间接2种方法对得到的薄膜的临界载荷进行分析对比,发现在不同负偏压下,薄膜的内应力和临界载荷不同。随着负偏压的增大,薄膜的内应力逐渐增大,临界载荷逐渐减小。在-100V偏压下制备的氮化钛薄膜的微观机械性能最为理想。
- 王智牛坚张玉娟吴志申
- 关键词：氮化钛
- 摩擦偶件对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦磨损行为的影响
- 利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜。采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦学行为的影响,...
- 杨广彬麻洪霞吴志申张平余
- 关键词：摩擦磨损行为
- 文献传递
- 摩擦偶件对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦磨损行为的影响被引量：2
- 2006年
- 利用分子沉积技术在单晶硅基底上制备了PDDA/PSS分子沉积膜。采用UV-vis吸收光谱对沉积过程进行了跟踪检测,用原子力显微镜观察了分子沉积膜的表面形貌,考察了摩擦偶件材料对PDDA/PSS分子沉积膜摩擦学行为的影响,并探讨了其磨损机制。实验结果表明,薄膜与较硬的偶件材料对摩时,剪切应力较大,薄膜很容易被磨穿,抗磨寿命极短;在相同实验条件下,薄膜与Cu球对摩时,薄膜的耐磨寿命最长,不锈钢球次之,与Si3N4球和WC球对摩时,薄膜的耐磨寿命较短。
- 杨广彬麻洪霞吴志申张平余
- 关键词：摩擦磨损行为
- Ti6Al4V合金上类金刚石膜的摩擦学性能及腐蚀行为被引量：4
- 2011年
- 采用离子束沉积技术在医用Ti6Al4V合金表面制备类金刚石薄膜(DLC),利用原子力显微镜、Raman光谱、X射线光电子能谱(XPS)及UMT-2摩擦磨损试验机对薄膜的形貌、结构、摩擦学性能进行表征。采用动电位极化对涂层前后基底的耐腐蚀性能进行测试。结果表明:制备薄膜为类金刚石碳结构,基底偏压对薄膜形貌、结构有较大影响;偏压为-100V时制备的薄膜表面粗糙度低(6.5nm),sp3/sp2比值高,摩擦学性能优异;经DLC膜保护的合金基底耐腐蚀性能获得明显改善。
- 刘建立王智张玉娟张平余
- 关键词：离子束溅射沉积TI6AL4V合金DLC膜摩擦学性能
- 含Cu(OH)2纳米微粒的聚电解质多层膜摩擦学行为研究
- 将 Cu与带相反电荷的聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)和聚丙烯酸(PAA)分别复合形成混合溶液,采用静电层接层自组装技术交替沉积成膜;并将其在碱性溶液中水解,从而在聚电解质多层膜中原位合成出 Cu(OH)纳米微粒,构成...
- 麻洪霞耿震岗杨广彬张平余
- 关键词：原位合成摩擦学行为
- 文献传递
- 负偏压对DLC薄膜结构和摩擦学性能的影响被引量：8
- 2007年
- 采用离子束溅射沉积镀膜法制备了DLC薄膜,研究了偏压对薄膜性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱对DLC薄膜的表面形貌以及内部结构进行了分析表征。并用UTM-2摩擦磨损仪对其摩擦学性能进行了测试。结果表明,利用离子束溅射沉积制备的DLC薄膜具有良好的减摩抗磨性能。随着偏压的增加薄膜的摩擦因数先减小后增加,在-150 V偏压时,薄膜的摩擦学性能最好。
- 王智宋红霞刘建立张平余张玉娟
- 关键词：DLC薄膜离子束溅射沉积摩擦学性能
- 仿荷叶超疏水表面的制备及其摩擦学行为
- 通过简单的塑化和凝结的方法,在商业用光盘上制备了具有自清洁作用的超疏水表面,其表面由微米级球状结构组成, 且微米球状结构表面存在纳米级微突起,即仿荷叶表面结构。对其摩擦性能进行了初步考察,发现超疏水表面相对于平滑表面有更...
- 孔令豪宋红霞陈新华杨广彬张平余
- 关键词：超疏水接触角自清洁
- 文献传递
- 双炔酸聚合LB膜结构及其摩擦磨损行为研究被引量：2
- 2007年
- 采用垂直提拉法将单层双炔酸膜转移到云母基片上,同时将13层双炔酸膜转移到经过亲水处理的单晶硅片和石英片上,使双炔酸在紫外光照射下发生拓扑聚合制备双炔酸聚合LB膜,并对双炔酸和经紫外光照射后聚合双炔酸LB膜的结构及摩擦磨损特性进行研究.结果表明:双炔酸在可见区无吸收峰,但经紫外光照射后因双炔酸聚合后形成的共轭大π键在可见区出现了吸收峰;双炔酸LB膜均匀平整,厚度约为3.5 nm,聚合后其结构发生变化,厚度降至约1.5 nm;而聚合后双炔酸LB膜的减摩性能基本保持不变,聚合前后双炔酸LB膜的摩擦系数不随载荷而变化,符合阿芒顿定律,其抗磨特性得到明显提高;磨痕结果充分表明聚合双炔酸耐磨性能较好.
- 徐军蒋晓红戴树玺杜祖亮张平余
- 关键词：摩擦磨损特性
