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国家自然科学基金(50675185)

作品数:12 被引量:43H指数:3
相关作者:谭援强李明军杨冬民高太元张浩更多>>
相关机构:湘潭大学利兹大学中国科学院力学研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学金属学及工艺机械工程化学工程更多>>

文献类型

  • 12篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇理学
  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇机械工程
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇数值模拟
  • 3篇化学机械抛光
  • 3篇机械抛光
  • 3篇值模拟
  • 2篇流场
  • 2篇DFT
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇丁酯
  • 1篇氧化铝
  • 1篇氧化铝陶瓷
  • 1篇载荷
  • 1篇正丁酯
  • 1篇润滑
  • 1篇双曲
  • 1篇双曲方程
  • 1篇陶瓷
  • 1篇内禀反应坐标

机构

  • 9篇湘潭大学
  • 2篇中国科学院力...
  • 2篇利兹大学
  • 1篇广西科技大学
  • 1篇四川大学

作者

  • 7篇谭援强
  • 4篇李明军
  • 2篇杨冬民
  • 2篇魏红波
  • 2篇王学业
  • 2篇张浩
  • 2篇高太元
  • 1篇李艺
  • 1篇吴明辉
  • 1篇刘丽明
  • 1篇高智
  • 1篇王寒露
  • 1篇唐媛媛
  • 1篇李才
  • 1篇盛勇
  • 1篇王小炎
  • 1篇胡利民
  • 1篇王衡亮
  • 1篇刘爱虹
  • 1篇王玲

传媒

  • 2篇中国机械工程
  • 2篇润滑与密封
  • 1篇力学学报
  • 1篇湘潭大学自然...
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇计算机与应用...
  • 1篇应用力学学报
  • 1篇Chines...
  • 1篇Applie...
  • 1篇粉末冶金材料...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 4篇2009
  • 6篇2008
  • 1篇2007
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
Study of H_2O and HOCH_2CH_2OH Adsorption on the Relaxation Surface of β-Si_3N_4(0001) by Density Functional Theory
2008年
Density functional theory (DFT) B3LYP method is used to theoretically investigate the adsorption conformations of H2O and glycol on the relaxation surface of β-Si3N4(0001) with cluster models. For H2O, the most stable structure is that adsorbed through the H atom lying above a N(3) site of the relaxation surface of β-Si3N4(0001); while for glycol, it is the one adsorbed via the H atom lying above the center of Si(2) and N(3) of the same relaxation surface. The adsorption energy, adsorption bond and transfer electrons of the two adsorbed substances prove that glycol is easy to be adsorbed on the relaxation surface of β-Si3N4(0001).
彭新宇王学业王玲谭援强
关键词:ADSORPTIONSURFACE
丙烯酸正丁酯聚合的Diels-Alder反应机理理论研究(英文)
2008年
本文从理论上对丙烯酸正丁酯(nBA)自引发聚合的Diels-Alder反应机理进行了研究.利用DFT方法在UB3LYP/6-31G~*水平上对反应的最低能量路径进行了计算,各驻点能量分别采用MP2/6-311G^(**)和B3LYP/6-311+G(3df,2p)进一步精确计算.结构表明:此Diels-Alder反应仅包括一种途径,即路径(I),另一条途径在热力学不支持.
张翠丽王学业刘丽明王艳玲彭新宇
关键词:丙烯酸正丁酯
利用三维格子Boltzmann法研究化学机械抛光中压力分布被引量:3
2009年
利用三维格子Boltzmann法(LBM),对化学机械抛光(CMP)的润滑过程做了数值模拟,得到了不同晶片和抛光垫转速下的压力分布,并讨论了抛光液黏度对高压涡中压力最大值的影响。数值模拟结果表明,晶片自转是产生"双涡图"的主要原因,抛光垫旋转则主要产生"单涡图",抛光垫和晶片旋转的综合作用一起影响抛光效果,其中抛光垫的转速的改变对去除率影响较大。利用格子Boltzmann法模拟润滑问题,所得结果与求解Reynolds方程的结果一致,并具有计算效率高、几何直观等特性,能实现CMP过程的三维模型,且较容易实现对多相流的模拟。
谭援强张浩李明军
关键词:化学机械抛光润滑
水在β-氮化硅(0001)面吸附的密度泛函理论研究
2007年
采用密度泛函理论(DTF)的B3LYP方法对H2O在β-Si3N4(0001)面上的吸附进行研究,采用原子簇模拟β-Si3N4(0001)表面,在6-31G^+水平上计算常温常压下H2O分子在β-Si3N4(0001)表面的吸附构型和吸附能及电荷变化,同时考察温度,压强及预吸附BH3对吸附体系的影响,结果表明:H2O分子通过H原子吸附在β-Si3N4(0001)面的N原子顶位时最有利;当温度为100℃,压强分别为3×10^5-10×10^5Pa时,吸附能为189.59kJ/mol,与常温常压体系相比,吸附能增加了57.19kJ/mol,吸附后O-H键拉长,可能发生解离;在BH3修饰的β-Si3N4(0001)表面上,由于预吸附导致吸附能减少。
王玲王学业王寒露王衡亮刘爱虹谭援强
关键词:H2OΒ-SI3N4
Third-order modified coeffcient scheme based on essentially non-oscillatory scheme
2008年
A third-order numerical scheme is presented to give approximate solutions to multi-dimensional hyperbolic conservation laws only using modified coefficients of an essentially non-oscillatory (MCENO) scheme without increasing the base points during construction of the scheme. The construction process shows that the modified coefficient approach preserves favourable properties inherent in the original essentially nonoscillatory (ENO) scheme for its essential non-oscillation, total variation bounded (TVB), etc. The new scheme improves accuracy by one order compared to the original one. The proposed MCENO scheme is applied to simulate two-dimensional Rayleigh-Taylor (RT) instability with densities 1:3 and 1:100, and solve the Lax shock-wave tube numerically. The ratio of CPU time used to implement MCENO, the .third-order ENO and fifth-order weighed ENO (WENO) schemes is 0.62:1:2.19. This indicates that MCENO improves accuracy in smooth regions and has higher accuracy and better efficiency compared to the original ENO scheme.
李明军杨玉月舒适
交变振动载荷下Al_2O_3陶瓷钢摩擦副的摩擦磨损性能被引量:2
2009年
在Al2O3陶瓷/45号钢摩擦副的工作过程中,摩擦副上的载荷不是单一的静载荷加载,而是复杂的振动载荷加载。在新型振动摩擦磨损试验机上采用环-块接触摩擦方式,研究Al2O3陶瓷与45号钢在交变振动载荷条件下的摩擦磨损性能,并与静载荷下的磨损性能进行对比;对陶瓷磨损表面进行扫描电镜观察与能谱分析。结果表明:在干摩擦条件下,交变振动载荷下的磨损量比正常载荷条件下的磨损量要大;交变振动载荷下氧化铝磨损表面产生微裂纹,氧化铝陶瓷的磨损机理是脆性断裂、磨粒磨损和犁沟磨损。在加载交变振动载荷与加载载荷条件下,氧化铝陶瓷磨损表面均覆盖一层金属转移膜,其主要成分为铁的氧化物。
唐媛媛谭援强吴明辉杨冬民
关键词:氧化铝陶瓷摩擦磨损性能转移膜静载荷
双面抛光工艺的流场压力分布被引量:1
2010年
建立了双面抛光工艺中晶片上下表面的压力分布模型,获得了晶片和抛光垫表面的速度分布关系,分析了自由晶片在抛光过程中的运动状态以及在压力荷载及转矩平衡时晶片上下表面的平均压力分布。数值计算结果表明:荷载压力越大,平均压差率越小;抛光垫转速越小,太阳轮转速越小;抛光液粘度越小,平均压差率越小。同时,根据通过调整抛光参数组合获得了最小的平均压差率,并利用正交实验法数值分析。研究发现抛光工艺参数对压力分布影响的主次关系依次为荷载压力、抛光液粘度、抛光垫转速、太阳轮转速。
魏红波谭援强张浩李明军
关键词:数值模拟
Some Applications of Discrete Element Method in Tribology
<正>Introduction. Tribology is an interdisciplinary subject which is connected to parts of mechanical engineeri...
Yuanqiang Tan~1
文献传递
表面粗糙度对化学机械抛光工艺过程流动性能的影响被引量:3
2009年
采用随机中点位移法通过计算机模拟抛光垫和晶片的基于分形的粗糙表面,构造了一种新的膜厚方程。在新膜厚方程的基础上分析了一般润滑方程及带离心项的润滑方程对化学机械抛光(CMP)过程中抛光液的压力分布以及无量纲载荷和转矩的影响。结果表明,考虑抛光垫和晶片表面的粗糙程度的影响时,抛光液的压力分布有一定的波动,且压力最大值有所增大,压力最小值有所减小;此外无量纲载荷和转矩的数值也变小。
魏红波谭援强高太元李明军
关键词:化学机械抛光分形
磨粒流加工的固液两相流模型及压力特性模拟被引量:17
2008年
以FLUENT软件为计算平台,采用Spalart-Allmaras固液两相Mixture湍流模型对磨粒流加工过程中磨粒流的流动形态进行了数值模拟,结果表明:增大压力差可提高通道中流体的平均速度,增大边界层与壁面流速差可提高加工效率;通过改变进口压力得到非稳态流场,能够使近壁面处的磨粒数目增多,有利于加工效率的提高。同时,模拟结果还反映了黏度对磨粒流加工有重要影响。数值模拟结果为磨粒流加工过程中的参数选择提供了参考依据。
谭援强李艺Sheng Yong
关键词:固液两相流数值模拟
共2页<12>
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