教育部科学技术研究重点项目(206098)
- 作品数：6 被引量：12H指数：3
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- 相关机构：武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室武汉健民药业(集团)股份有限公司更多>>
- 发文基金：教育部科学技术研究重点项目国家自然科学基金湖北省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- 纳米碳管碳化钨复合粉体及其镍基复合镀层被引量：1
- 2009年
- 纳米碳管/碳化钨复合粉体材料具有高硬度、高强度的"双高"良好特性,是良好的复合镀层增强材料。研究以Na2WO4.2H2O和Fe(NO3)3.9H2O为原料,在微波等离子体的作用下,通过对钨的强制碳化,直接制备了分散均匀的纳米碳管/碳化钨复合粉体材料。利用电泳电解复合沉积技术,获得了镍基纳米碳管/碳化钨复合镀层,该镀层强度高、耐磨性能良好。
- 邓晓清王升高杜宇余冬冬许传波汪建华
- 关键词：碳化钨纳米碳管
- 等离子体改性对纳米碳管电化学检测性能的影响
- 2007年
- 利用微波等离子体化学气相沉积法制备了与电极基底结合良好的纳米碳管电极,用空气等离子体将该纳米碳管电极功能化,并以功能化的电极为工作电极,利用循环伏安法对毒性很强的酚的混合物进行检测。根据氧化还原峰电位的不同可以区分出邻苯二酚和对苯二酚,与石墨电极相比,功能化的纳米碳管电极具有更好的电催化性能。利用该电极测定酚的混合物是一种准确、快速、有效的测定方法。合成纳米碳管电极的最佳工艺条件为:功率为400 W,压强为3.0 kPa,甲烷流速为2 mL/m in,氢气流速为50 mL/m in;功能化纳米碳管的最佳工艺条件为:功率为150 W,压强为1.0 kPa,空气的流速为50 mL/m in。
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- 关键词：电化学检测
- 利用钛铁矿制备纳米碳管
- 钛铁矿综合利用发展的必然趋势是节能降耗,减少环境污染,加快研发综合利用钛铁矿中铁、钛两种组分的新工艺。以廉价钛铁矿为原料,利用微波等离子体化学气相沉积法,直接制备了纳米碳管,并在适当的条件下,同时将其中的钛氧化物碳化而获...
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- 关键词：钛铁矿微波等离子体化学气相沉积纳米碳管碳化钛
- 文献传递
- 纳米碳管/碳化钨复合粉体材料及镍基复合镀层的制备
- 纳米碳管/碳化钨复合粉体材料其具有高硬度、高强度的"双高"良好特性,是良好的复合镀层增强材料。本研究以NaWO·2HO和Fe(NO)·9HO为原料,在微波等离子体的作用下,通过对钨的强制碳化,直接制备了分散均匀的纳米碳管...
- 邓晓清王升高杜宇余冬冬许传波汪建华
- 关键词：碳化钨纳米碳管
- 文献传递
- 利用钛铁矿制备纳米碳管/碳化钛复合粉体材料的工艺被引量：3
- 2009年
- 以钛铁矿为原料,在等离子体和微波场的分步作用下,制得了纳米碳管/碳化钛复合粉体材料。通过研究纳米碳管的等离子体生长工艺和微波强制碳化工艺,得出了合理的制备条件:制备纳米碳管的条件为微波功率550W,腔体内压强5kPa左右,CH4流量2.3mL.min-1,H2流量45mL.min-1,处理时间40min。强制碳化处理阶段,微波功率900W,时间20min。结果表明,纳米碳管/碳化钛复合镀层具有较高的硬度和较小的摩擦系数。
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- 关键词：钛铁矿纳米碳管碳化钛复合镀层
- 低温空气等离子体改性PDMS的研究被引量：4
- 2008年
- 为了改善聚二甲基硅氧烷(PDMS)的亲水性和稳定其电渗性能,采用空气微波等离子体在低温条件下对其表面进行改性。利用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)及静态接触角对处理前后的PDMS进行分析。经空气微波等离子体处理3min后,PDMS的亲水性得到极大的改善,水在其表面的接触角接近零度。XPS结果表明:处理后PDMS表面形成SiOx薄层;AFM显示空气等离子体处理对PDMS的表面没有损伤。与文献报道的高、中真空氧等离子体处理方法相比,亲水效果基本一致,却大幅度降低了对设备真空系统的要求,并缩短了操作时间,节约了成本。最佳处理条件为:微波为100W,腔体内气压为1.0kPa,空气的流量为20sccm(1sccm=1cm3·min-1),时间3min。
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- 关键词：聚二甲基硅氧烷微波亲水性能
- 利用钛铁矿制备纳米碳管被引量：3
- 2007年
- 钛铁矿综舍利用发展的必然趋势是节能降耗,减少环境污染,加快研发综合利用钛铁矿中铁、钛两种组分的新工艺。以廉价钛铁矿为原料,利用微波等离子体化学气相沉积法,直接制备了纳米碳管,并在适当的条件下,同时将其中的钛氧化物碳化而获得纳米碳管碳化钛复合粉体材料。纳米碳管能有效地分散碳化钛颗粒,从而得到分散均匀的粉体材料。
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- 关键词：钛铁矿微波等离子体化学气相沉积纳米碳管碳化钛
- 光辐照、热处理对Li_2O-Al_2O_3-SiO_2光敏微晶玻璃光化学加工性能的影响被引量：2
- 2008年
- 采用溶胶凝胶法结合高温熔制法,研制了适合微流控芯片用的光敏微晶玻璃。利用XRD、DTA和SEM测试技术,研究了热处理、光辐照对Li2O-Al2O3-SiO2系统微晶玻璃光化学加工性能的影响,确定出较为合理的工艺条件:光照时间30 min,热处理时温度升到485℃保温200 min,600℃保温60 min,升温速率约5℃.min-1。在此基础上,制备出微流控芯片分析用的十字沟道和储液池。
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- 关键词：溶胶凝胶法微流控芯片
