国家重点基础研究发展计划(613108020303)
- 作品数：3 被引量：11H指数：3
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- 相关机构：武汉军械士官学校湖南大学更多>>
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- 激光制备类金刚石膜技术研究被引量：3
- 2011年
- 现有技术制备的类金刚石(DLC)膜由于含氢、硬度低、内应力大、附着力差等特点,严重限制了其光学工程应用。激光法是近年发展的一种制备DLC膜的新方法,相比其他制备方法具有诸多优点。综合分析了激光制备DLC膜过程中,激光波长、脉宽、功率密度、衬底温度和偏压等因素对薄膜质量的影响规律。采用氧气氛辅助沉积、元素掺杂和双波长激光复合沉积等关键改进技术,实现了在Si、Ge等基底上激光制备DLC膜光学工程化应用。
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- 关键词：类金刚石膜激光沉积掺杂
- 激光在硅基底沉积类金刚石膜的光学应用被引量：8
- 2010年
- 研究了氧气氛和掺硅对类金刚石（DLC）膜性能的影响机理。采用飞秒激光烧蚀石墨靶材,通过氧气氛、掺硅和离轴平移旋转等技术,在硅基底上镀制出比传统工艺透过率、硬度、附着力和稳定性等性能更优的无氢DLC膜。实验验证了随着氧气氛压强的增大,样片透过率先增大后减小,存在一个最佳气压（2 Pa）。并且掺硅有助于改善DLC膜的性能,掺硅量也存在一个最佳值。在3-5μm波段,正面镀DLC膜、背面镀普通增透膜的硅红外窗口的平均透过率≥91.7%,DLC膜的纳米硬度高达40-50 GPa,且通过军标规定的高温、低温、湿热、盐雾、重摩擦等环境实验,满足光学窗口工程应用的要求。
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- 关键词：激光沉积类金刚石膜硅基底光学应用
- 脉冲激光沉积类金刚石膜红外增透技术研究被引量：5
- 2011年
- 针对传统方法制备类金刚石(DLC)膜存在的3～5μm波段红外透过率低这一难题,采用飞秒脉冲激光沉积(PLD)法在红外材料硅基底上镀制DLC膜。重点考查了靶材与基片的间距、背景气压、激光单脉冲能量、负偏压、温度以及掺硅量等工艺参数对其透过率的影响,经过大量的实验与优化分析,总结出一套有效的脉冲激光沉积DLC膜工艺来制备优良的光学保护增透膜。相比传统工艺,大大提高了3～5μm波段的平均红外透过率,在硅基底上单面镀制DLC膜的最高红外透过率达到了68.2%,与理论最高值的68.7%仅相差0.5%。
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- 关键词：飞秒脉冲激光脉冲激光沉积法类金刚石膜红外透过率
