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A Novel Plasma CVD Process for Achieving Nanocrystalline TiO_2 Films at Atmospheric pressure and Room Temperature: <正>~~; 朱爱民; 文献传递

介质阻挡放电脱除甲醛的化学动力学模拟被引量：10: 2007年; 对大气压介质阻挡放电脱除甲醛进行了化学动力学模拟,建立了时空平均化的模型,并对相关的结果进行了实验验证.分析了各主要物种的浓度随放电时间的变化,在模拟空气气氛下,HCHO主要由O~·和OH~·自由基脱除,其中,OH~·自由基的作用更为突出.强调了氮分子的第一电子激发态N_2(A^3∑_u^+)的作用,它与O_2、H_2O分子的碰撞增加了O~·和OH~·自由基的浓度,在氮气气氛中,N_2(A^3∑_u^+)态是使HCHO脱除的主要物种.讨论了HCHO初始浓度、气体流量对HCHO脱除比能耗和产物中CO_2/CO摩尔比值的影响,HCHO初始浓度较高时,甲醛脱除的比能耗较低,在输入能量密度<60 J·L^(-1),HCHO初始浓度较低时,产物中n_(CO_2)/n_(CO)值较高.; 张静吕福功徐勇杨学锋朱爱民; 关键词：介质阻挡放电甲醛化学动力学

Investigation on plasma CVD of TiO2 photocatalyst on γ-Al2O3 pellet filled in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure: ＜正＞ Chemical vapor deposition（CVD）has been widely studied for depositing TiO2 thin films on thesupports with v...; Ai-Min Zhu, Long-Hui Nie, Xue-Feng Yang , Xiu-Ling Zhang, Zhi-Min Song, Yong Xu ( Laboratory of Plasma Physical Chemistry, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China. Center for Nano Materials and Science, Dalian University of Technology, Dalian 116024, China.; 文献传递

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国家自然科学基金(50177003)