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国家高技术研究发展计划(2002AA31119Z)

作品数:3 被引量:7H指数:1
相关作者:孙长征罗毅王健蔡鹏飞田建柏更多>>
相关机构:清华大学中国科学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 1篇氮化镓
  • 1篇电子器件
  • 1篇电阻
  • 1篇退火
  • 1篇热沉
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇光电子器件
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇硅基
  • 1篇发光
  • 1篇薄膜电阻
  • 1篇P型
  • 1篇P型掺杂
  • 1篇40GB/S
  • 1篇EA
  • 1篇EML
  • 1篇GAI
  • 1篇GAN材料

机构

  • 3篇清华大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 3篇罗毅
  • 3篇孙长征
  • 2篇熊兵
  • 2篇田建柏
  • 2篇蔡鹏飞
  • 2篇王健
  • 1篇胡卉
  • 1篇张家宝
  • 1篇谢亮
  • 1篇周晓滢
  • 1篇祝宁华
  • 1篇郭文平
  • 1篇刘宇

传媒

  • 3篇Journa...

年份

  • 2篇2005
  • 1篇2002
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
不同Mg掺杂浓度的GaN材料的光致发光被引量:5
2002年
究了用低压金属有机物化学沉积方法生长得到的具有不同 Mg掺杂浓度的 Ga N样品薄膜 ,经不同温度退火处理后的发光特性 .实验发现随着退火温度的升高 ,不同掺杂浓度的 Mg∶ Ga N材料的光致发光谱蓝带峰能量相差变小 ,经 85 0℃退火后蓝带集中在 2 .92 e V附近 .利用 Mg∶ Ga N材料内部补偿模型对此现象进行了分析 ,同时认为对于掺杂浓度较高的样品 ,85 0℃为最佳的退火温度 .
周晓滢郭文平胡卉孙长征罗毅
关键词:P型掺杂光致发光退火氮化镓
用于40Gb/s光电子器件的新型低成本硅基过渡热沉被引量:1
2005年
提出了一种新型低成本硅基过渡热沉,用以实现高达40Gb/s的高速光电子器件封装.采用高阻硅衬底作为热沉基底,制作出了0~40GHz范围内传输损耗小于0.165dB/mm的共面波导传输线.热沉中采用Ta2N薄膜电阻作为负载以实现器件的阻抗匹配,达到了0~40GHz范围内低于-18dB的宽带低反射特性.和传统硅基平台相比,新型硅基热沉更具有制作工艺简单、导热性能良好等优点.为了证明其实用性,热沉被应用于高速电吸收调制器的管芯级封装测试,获得了超过33GHz的小信号调制带宽特性,在硅基热沉上首次实现可用于40Gb/s系统的光电子器件.
熊兵王健蔡鹏飞田建柏孙长征罗毅
关键词:薄膜电阻
10Gb/s EML Module Based on Identical Epitaxial Layer Scheme被引量:1
2005年
A 10Gb/s transmitter module containing an electroabsorption modulator monolithically integrated with a distributed feedback (DFB) semiconductor laser is fabricated using the identical epitaxial layer scheme.Gain-coupling mechanism is employed to improve the single mode yield of the DFB laser,while inductively coupled plasma dry etching technique is utilized to reduce the modulator capacitance.The integrated device exhibits a threshold current as low as 12mA and an extinction ratio over 15dB at -2V bias.The small signal modulation bandwidth is measured to be over 10GHz.The transmission experiment at 10Gb/s indicates a power penalty less than 1dB at a bit-error-rate of 10 -12 after transmission through 35km single mode fiber.
孙长征熊兵王健蔡鹏飞田建柏罗毅刘宇谢亮张家宝祝宁华
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