您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(2009AA03Z116)

作品数:4 被引量:13H指数:3
相关作者:贾成厂李一柳学全李金普李楠更多>>
相关机构:北京科技大学钢铁研究总院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇金属有机化学...
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇MOCVD
  • 2篇碳纤维
  • 1篇等离子体
  • 1篇碳化
  • 1篇碳化钨
  • 1篇碳纳米管
  • 1篇碳纤维表面
  • 1篇铜复合材料
  • 1篇纤维表面
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米管
  • 1篇化合物
  • 1篇环境友好型
  • 1篇放电等离子体
  • 1篇覆膜
  • 1篇复合材料
  • 1篇半导体

机构

  • 6篇北京科技大学
  • 4篇钢铁研究总院

作者

  • 5篇李一
  • 4篇贾成厂
  • 3篇李楠
  • 3篇柳学全
  • 3篇李金普
  • 2篇聂俊辉
  • 2篇李发长

传媒

  • 2篇粉末冶金技术
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料导报(纳...

年份

  • 3篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
金属有机化学气相沉积W薄膜被引量:3
2011年
以W(CO)6为前驱体,采用金属有机化学气相沉积法(MOCVD)在Cu基体表面进行了沉积W薄膜的研究。通过调整W(CO)6热解温度、W(CO)6气化温度及载气(高纯氢气)的流量等工艺参数,成功制备了均匀、致密的W薄膜;研究了沉积速率与上述参数之间的关系,并得出了在本试验条件下应用金属有机化学气相沉积法(MOCVD)制备W薄膜的最佳工艺参数:热解温度为320~380℃,载气流量为160~200ml/min。
李一李金普贾成厂柳学全李发长李楠
五氯化钼的制备工艺研究
以三氧化钼和四氯化碳为原料,通过密封体系制备出五氯化钼,并讨论了反应时间与温度对合成效率的影响,得到了较佳合成条件。本文方法制备的五氯化钼相单一,产率高,能够有效降低成本和能耗,避免了已有方法成本较高且原料毒性较大的缺点...
李楠李一柳学全霍静
文献传递
放电等离子体烧结制备镀钼碳纳米管/铜复合材料
对碳纳米管(CNTs)进行了金属有机化学气相沉积(MOCVD)镀钼处理,将镀钼CNTs(Mo-CNTs)与铜粉进行磁力搅拌混合与放电等离子体烧结(SPS)制备了Mo-CNTs/Cu复合材料。探讨了Mo-CNTs含量对复合...
聂俊辉贾成厂张亚丰史娜李一
关键词:碳纳米管MOCVDSPS
文献传递
镍覆膜碳纤维的制备与性能研究被引量:4
2012年
以Ni(CO)4为前驱体,通过羰基金属化学气相沉积工艺在碳纤维表面沉积连续镍膜,从而制得镍覆膜碳纤维材料。实验给出了镍覆膜碳纤维的较佳制备工艺条件。借助SEM、EDX、XRD、冷热循环实验、断裂强度分析、差热分析等多种分析测试手段研究了镍覆膜碳纤维的性能。结果表明碳纤维表面沉积的膜层为纯镍相,连续致密,与碳纤维基底结合良好,可经受4次冷热循环而不脱落;碳纤维表面沉积连续镍膜后,其断裂强度提高了34.9%;差热分析显示沉积连续镍膜后可有效提高碳纤维的抗氧化性能。
李一聂俊辉李楠柳学全贾成厂
关键词:金属有机化学气相沉积碳纤维
碳纤维表面沉积碳化钨膜研究被引量:2
2012年
通过W(CO)6化学气相沉积(MOCVD)工艺,在碳纤维表面沉积得到了碳化钨膜材料,研究了碳纤维表面沉积碳化钨膜的工艺条件。结果表明:在400℃沉积温度下沉积时间15min,一定浓度的W(CO)6可解离沉积在碳纤维表面形成致密碳化钨膜;膜层厚度0.4μm,物相为WC1-x相,与碳纤维基体结合强度高。DTA分析表明,复合碳纤维的抗热氧化性能得到了明显提高。
李一李金普李发长柳学全李楠周武平贾成厂
关键词:碳纤维碳化钨
金属有机化学气相沉积的研究进展被引量:5
2012年
概述了金属有机化学气相沉积技术(MOCVD)的一般原理,讨论了适用于金属有机化学气相沉积的前驱体化合物及反应器类型,介绍了金属有机化学气相沉积技术在半导体化合物材料和各种薄膜材料中的发展及应用。
李一李金普柳学全贾成厂
关键词:金属有机化学气相沉积半导体化合物
共1页<1>
聚类工具0