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江西省教育厅青年科学基金(GJJ12575)
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1
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余华军
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张宪科
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常压MOCVD法制备TiO_2薄膜及性质研究
2012年
利用常压MOCVD法在Si及Al2O3衬底上制备了TiO2薄膜.研究了沉积温度和退火温度对TiO2薄膜结构和形貌的影响,以及TiO2薄膜的光学性质.研究发现,沉积温度为600℃时,制备的TiO2薄膜结构为锐钛矿相,薄膜质量较高.TiO2薄膜在1 090℃高温退火后,薄膜结构完全转变为金红相.TiO2薄膜在可见区域有着高达90%以上透射率,在紫外区域有着强烈的吸收.
苑举君
张宪科
余华军
谢应茂
关键词:
TIO2薄膜
MOCVD
锐钛矿
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