浙江省自然科学基金(M503049)
- 作品数：10 被引量：63H指数：6
- 相关作者：李伟胡晓珍吕迅金杨福郁炜更多>>
- 相关机构：浙江工业大学浙江海洋学院浙江省质量技术监督局更多>>
- 发文基金：浙江省自然科学基金浙江省科技厅重点资助项目浙江省教育厅重点资助项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺自动化与计算机技术化学工程机械工程更多>>
- 基于田口试验法的双自转研磨盘磨球工艺的优化被引量：12
- 2008年
- 陶瓷球双自转研磨盘的研磨方式是一种新型的球磨方式,它不仅磨球精度较高,且磨球机构简单。采用田口试验法来获取陶瓷球双自转研磨盘研磨方式的最佳工艺参数,以及各参数对研磨指标的贡献率。实验表明,当加载压力为4N/ball,研磨液浓度为wt10%,取内外盘速度组合1时,可获得最佳的球面表面粗糙度和球度。试验还表明,研磨液浓度对陶瓷球表面粗糙度和球度影响程度最大。
- 吕迅金杨福厉淦
- 关键词：陶瓷球
- 超精密双面抛光机控制系统的研究被引量：3
- 2005年
- 介绍了超精密双面抛光机的控制系统,对其实现方法进行了研究,分析了控制系统的组成,提出并建立了基于微机统一控制系统的解决方案。采用W indows软件平台,图形化界面功能指示、高精度光栅传感器、压力传感器、数字阀组成电气联合控制系统,应用新型电气直接数字控制技术实现该机的自动加工。
- 胡晓珍胡晓东李伟
- 关键词：超精密直接数字控制
- MS-6BC型精密双面抛光机的研制被引量：7
- 2008年
- 光电子信息产业的快速发展,要求蓝宝石、单晶硅等材料高效率、超光滑表面加工,精密双面抛光加工是得到这些材料超光滑表面的主要加工方法之一。本文介绍了新研制的MS-6BC型精密双面抛光机,介绍了其结构及其特点,并论述了双面抛光加工的主要工艺因素和过程。最后通过试验验证了MS-6BC型精密双面抛光机具有加工精度高,控制性能好的特点,适用于蓝宝石、单晶硅等人工晶片的超精密加工。
- 张璟胡刚翔马树林李伟叶怀储
- 关键词：光电子材料超光滑表面
- 纳米级双面抛光机控制系统设计
- 2009年
- 设计了纳米级双面抛光机的控制系统,对其实现方法进行了研究,分析了控制系统的组成,提出并建立了基于微机统一控制系统的解决方案。采用WindowsCE软件平台,图形化界面功能指示、高可靠性的实时操作系统、高精度光栅传感器、压力传感器、数字阀组成电气联合控制系统,应用新型电气直接数字控制技术实现该机的自动加工。
- 胡晓珍胡晓冬李伟
- 关键词：超精密直接数字控制
- 双面抛光加工运动过程分析与数学模型的建立被引量：20
- 2005年
- 晶片在双面抛光加工过程中具有多向运动、受力复杂、表面材料微细去除的特征,晶片的运动和受力是影响双面抛光加工质量的主要因素。本文通过分析双面抛光加工时晶片的运动规律和受力状态,建立了双面抛光加工时晶片运动的数学模型。研究结果表明,晶片的运动是行星运动和自转运动的合成,当晶片质量和惯性矩较小并可以忽略时,晶片的自转速度与抛光压力、抛光垫和晶片表面间的摩擦状态无关,而与行星轮和晶片端面间的摩擦状态、行星轮系统运动参数和抛光盘转速有关。
- 金杨福李伟胡刚翔胡晓珍
- 关键词：晶片数学模型
- 基于田口方法的铌酸锂基片CMP工艺研究被引量：7
- 2009年
- 化学机械抛光(CMP)是获得超平滑无损伤铌酸锂基片的有效加工方式。其中抛光液pH值、加工载荷和抛光盘转速是影响铌酸锂基片加工表面质量的重要因素。文章采用田口方法对这3个重要影响因素进行了优化设计,得到以表面粗糙度为评价条件的综合最优抛光参数。实验分析表明,当抛光液pH值为10.8,加工载荷90kPa,抛光盘转速50r/min时,经过3h的抛光后,可以获得超平滑无损伤的铌酸锂基片(Ra为1nm)。
- 郁炜吕迅
- 关键词：化学机械抛光田口方法
- 电话机注塑模具浇口的优化设计被引量：9
- 2009年
- 浇口位置在注塑成型过程中起关键性作用。文章介绍专业注塑模分析软件-MPI在电话机注塑模具浇口位置设计的应用,从产品的填充时间、注射压力和冷却时间等方面对不同的浇口设计方案进行对比。分析表明,方案一的浇口位置具有填充时间短、注射压力小,熔接线和气穴数量少的优点,是较佳的浇口位置方案。
- 郑文郁炜吕迅
- 关键词：电话机浇口位置优化设计
- 基于语音控制的智能家电控制系统被引量：2
- 2008年
- 介绍了一种智能家电的语音控制系统,该系统以凌阳16位单片机SPCE061A为硬件核心,及配制语音输入及语音输出外围电路,软件系统采用了特定发音人语音识别的策略,在不太嘈杂的环境下,能以较高的识别率实现对照明系统、电扇和电视机等家用电器的语音控制。
- 吕迅金杨福厉淦
- 关键词：智能家电语音识别语音控制
- 超精密双面抛光机结构的优化设计被引量：9
- 2009年
- 针对传统双面抛光机存在的问题,从实现超精密抛光的设备条件出发,对机床传动系统、主轴支撑结构、上抛光盘加载系统、抛光盘修整、床身等进行优化改进设计。提高了超精密双面抛光机床的精度和系统性能,为晶片获得纳米级加工精度的超光滑加工表面创造了有利条件。
- 胡晓珍李伟
- 关键词：超精密加工优化设计
- 双面抛光机内外齿圈齿比的研究被引量：3
- 2011年
- 双面抛光机作为超精密加工的重要设备,它的加工质量主要由工件表面加工轨迹和抛光机的振动所决定。作为抛光机的关键因素之一,工件表面的加工轨迹和内外齿圈齿比有着直接的联系。调整内外齿圈齿比是双面抛光机进行生产之前最重要的一件事。最新的研究表明,双面抛光机的振动也与内外齿圈齿比有很大的联系,但是具体的关联理论尚不明确。文章通过具体实验调整内外齿圈齿比得到1个优化的参数使双面抛光机的振动减小,为固定内外齿圈齿比双面抛光机的制造提供参考,同时在实验中,还发现了抛光机振动与加工轨迹的1个新的关系。
- 金程李伟
- 关键词：金属加工
