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东莞市科技计划项目(20071109)

作品数：1 被引量：108H指数：1
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相关领域：一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇镀膜技术
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射靶

机构

  • 1篇广东工业大学

作者

  • 1篇宋月贤
  • 1篇王成勇
  • 1篇成晓玲
  • 1篇余东海

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射镀膜技术的发展被引量：108
2009年
磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展。非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象,消除靶中毒和打弧问题,提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率;改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域。
余东海王成勇成晓玲宋月贤
关键词：镀膜技术
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