教育部“新世纪优秀人才支持计划”(NCET-04-0899)
- 作品数：16 被引量：66H指数：5
- 相关作者：祖小涛蒋晓东向霞袁晓东郑万国更多>>
- 相关机构：电子科技大学中国工程物理研究院湛江师范学院更多>>
- 发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信更多>>
- 单晶中植入纳米晶微结构及光电性能研究
- 2006年
- 单晶α-Al_2O_3、MgO、YSZ和TiO_2在室温下分别注入Ni^+和Zn^+离子,然后在氧化气氛中退火,以形成金属及其氧化物纳米晶．形成的纳米复合结构分别采用X射线光电子能谱(XPS)表征各元素化学价态;用X射线衍射分析(XRD)检测纳米结构的结晶形态;用透射电子显微分析(TEM)观察纳米晶的微观结构及分布情况;吸收光谱和荧光光谱分别用来表征纳米复合结构的宏观光学性能;超导量子干涉磁强计(SQUID)测量磁性纳米晶的矫顽力及截止温度．研究表明:在几种单晶材料中分别形成的金属Ni和Zn具有表面等离子共振吸收效应,ZnO纳米晶具有较强的绿光发射,铁磁性金属Ni纳米晶具有比常规块材大的矫顽力。这些性能在光学滤波片、蓝/绿发光器件和磁存储器方面板具应用前景．
- 祖小涛向霞
- 关键词：纳米晶离子注入单晶光学性能磁学性能
- CO_2激光和等离子体清洗提高石英基片损伤阈值被引量：9
- 2007年
- 采用连续CO2激光和真空等离子体相结合的方法对石英基片进行清洗。通过光学显微图、水接触角、透过率和损伤阈值测量分别表征了CO2激光和等离子体对真空硅脂蒸发物污染过的石英基片的清洗效果。研究表明:对于真空硅脂蒸发物污染后的石英基片,可以先采用低能量的CO2激光进行大面积清洗,再用真空等离子体进行精细清洗。光学显微图像表明:清洗后的基片表面的油珠被清除干净;水滴接触角由63°下降到4°;在400 nm附近,基片透过率由92.3%上升到93.3%;损伤阈值由3.77 J/cm2上升到5.09 J/cm2。
- 李绪平祖小涛袁晓东蒋晓东吕海兵郑万国唐灿李珂向霞郭袁俊徐世珍袁兆林
- 关键词：激光清洗激光损伤阈值
- 熔石英亚表面划痕激光诱导损伤阈值实验研究被引量：14
- 2007年
- 用原子力显微镜和光学显微镜观测酸蚀后熔石英亚表面划痕,并根据形貌特征将其分为Boussinesq-point-force crack(BPFC)、Hertzian-conical scratch(HCS)和Plastic indent(PI)三类,测试了各类划痕的损伤阈值,讨论了激光损伤机制。结果表明锐度较大的BPFC损伤阈值不超过2.0 J/cm2;深度小于1μm的HCS阈值可达2.6 J/cm2;形变较大的PI阈值至2.8 J/cm2,形变较小的PI的激光损伤阈值与无缺陷材料相当。BPFC和深度超过1μm的HCS是导致熔石英损伤阈值低的主要因素。
- 田东斌祖小涛袁晓东徐世珍郭袁俊蒋晓东李绪平吕海兵郑万国
- 关键词：YAG激光熔石英损伤阈值
- 氦在bcc和fcc过渡金属中稳定性的理论研究被引量：1
- 2008年
- 采用基于密度泛函理论的从头算对bcc和fcc过渡金属中氦原子的稳定性进行了研究。计算结果表明,除了V和Nb外,不管是bcc还是fcc,氦都是在替换位置最稳定。对于间隙位置,在bcc过渡金属中,氦在四面体位置比八面体位置更稳定,而在fcc过渡金属中,间隙氦的稳定位置没有规律可循。对有磁性的bccFe和fccNi进行自旋和非自旋极化研究,发现金属的磁性对间隙氦的稳定位置没有直接的影响。
- 杨莉祖小涛王小英刘柯钊王治国
- 关键词：密度泛函理论氯
- 退火时间对ZnO:Al薄膜性能的影响被引量：1
- 2008年
- 采用溶胶-凝胶法在石英玻璃衬底上制备了Al／Zn原子比为0．1％的ZnO：Al薄膜，在500℃的氩气中进行了1～5h不同时间退火处理，利用X射线衍射（XRD）、光致发光（PL）、透射光谱和四探针法研究了退火时间对薄膜性能的影响。结果显示，退火1h时，样品出现了C轴择优取向，深能级发射（DLE）提高，可见光区光学透过率约为80％，电阻率仅为4×10^-2Ω·cm。更长时间退火后，随着退火时间增加，薄膜结晶质量逐渐变差，电阻率逐渐增大。
- 袁兆林祖小涛薛书文李绪平向霞王毕艺田东彬邓宏毛飞燕
- 关键词：溶胶-凝胶法ZNO:AL薄膜光致发光退火时间透过率
- Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响被引量：3
- 2009年
- 利用真空蒸发法在石英玻璃衬底上制备了ZnS薄膜,将能量80keV,剂量1×1017cm-2的Ti离子注入到薄膜中,并将注入后的ZnS薄膜进行退火处理,退火温度500—700℃.利用X射线衍射(XRD)研究了薄膜结构的变化,利用光致发光(PL)和光吸收研究了薄膜光学性质的变化.XRD结果显示,衍射峰在500℃退火1h后有一定程度的恢复;光吸收结果显示,离子注入后光吸收增强,随着退火温度的上升,光吸收逐渐降低,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移;PL显示,薄膜发光强度随退火温度的上升而增强.
- 苏海桥薛书文陈猛李志杰袁兆林付玉军祖小涛
- 关键词：ZNS薄膜离子注入X射线衍射光致发光
- 1.064μm脉冲激光作用下SiO2薄膜纹波损伤的模拟被引量：4
- 2008年
- 用1.064μm波长的单脉冲(6 ns)激光对K9玻璃基底上电子束沉积的单层SiO2薄膜进行了辐照损伤实验。以扫描电镜对K9基底的断面进行分析,并采用表面热透镜装置对膜层中的缺陷进行了检测,最后采用Matlab偏微分工具箱对缺陷的散射光光场进行了有限元模拟。实验研究表明:膜层中存在缺陷,基底中也存在大量缺陷。模拟研究表明:缺陷的位置越深,形成的条纹间距也越宽;当缺陷的形状不规则时,在局部出现近似平行的纹波结构;当缺陷的数目增加时,这些缺陷的散射光的叠加就形成相互叠加的条纹。
- 袁晓东李绪平郑万国祖小涛向霞蒋晓东尹烨徐世珍郭袁俊田东斌王毕艺
- 关键词：激光诱导损伤SIO2薄膜电子束蒸发
- 钴掺杂二氧化锡纳米粉的光致发光和磁学性质被引量：6
- 2009年
- 研究了钴掺杂对二氧化锡纳米粉的光致发光性质和磁学性质的影响,发现钴掺杂对发光带的位置影响很小,但紫外发光带与蓝色发光带的强度之比随掺杂含量的增加而下降.当钴掺杂含量达到0.02时,样品中的铁磁性被完全破坏.讨论了样品中的磁相互作用的机理,认为掺杂离子的不均匀分布、自旋极化子与掺杂离子之间的耦合都可能导致反铁磁性的相互作用,这种反铁磁性的作用破坏了铁磁性.
- 刘春明方丽梅祖小涛
- 关键词：光致发光磁学性质
- 熔石英亚表面缺陷附近光强分布的数值模拟被引量：5
- 2008年
- 熔石英亚表面缺陷对光场的调制是导致激光辐照场破坏的主要因素。采用有限元方法对熔石英亚表面缺陷(平面和锥形划痕)周围的光强分布进行了数值模拟。结果表明:划痕形状、几何尺寸、方位角、光的入射角等是影响划痕周围光强分布的主要因素;前表面划痕对光强的增强效果比后表面弱;在理想形状的划痕截面和表面同时发生内全反射时,平面划痕周围的光强增强效果明显。锥形划痕周围的光强分布为正确解释交叉划痕的夹角平分线附近的损伤提供了理论依据。
- 田东斌袁晓东祖小涛王毕艺徐世珍郭袁俊蒋晓东李绪平郑万国
- 关键词：激光损伤数值模拟
- Al掺杂原子分数及退火温度对ZnO薄膜光学特性的影响被引量：3
- 2007年
- 采用溶胶凝胶法在（0001）Al2O3衬底上制备了不同掺杂原子分数的ZnO：Al薄膜，在Ar气氛中进行了600950℃不同温度的退火处理，研究了掺杂原子分数和退火温度对薄膜光致发光、光吸收和透射的影响。结果显示，薄膜的紫外峰强度随掺杂原子分数和退火温度的提高而增强，与缺陷相关的绿光强度却随着掺杂原子分数和退火温度的提高而降低；薄膜光学带隙随掺杂原子分数的提高从3．21eV增大到3．25eV；光吸收在可见光区随着退火温度的升高而增大，在紫外区却随着退火温度的升高而减小，透射与吸收的变化规律相反；薄膜吸收边随退火温度的升高出现轻微的红移。
- 薛书文祖小涛陈美艳邓宏向霞徐自强
- 关键词：ZNO薄膜光致发光溶胶凝胶退火吸收光谱透射光谱
