天津市应用基础与前沿技术研究计划(2011)
- 作品数：1 被引量：0H指数：0
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- 调制周期、调制比、沉积温度对ZrB_2/W纳米多层膜微结构和机械性能的影响
- 2011年
- 利用离子束辅助沉积方法(IBAD)在室温和400℃下制备出了单质的ZrB2和W薄膜以及不同调制周期和调制比的ZrB2/W纳米超晶格多.通过XRD,SEM,表面轮廊仪及纳米力学试系统研究了沉积温度和调制周期对纳米多生长、织构、界面结构、机械性能的影响.研究结果表明:在室温条件下,调制周期为13nm时,多的硬度最高可达23.8GPa,而合成中提高沉积温度则有利于提高薄的机械性能.在沉积温度约为400℃时合成的6.7nm调制周期的ZrB2/W多,其硬度和弹性量分别达了32.1和399.1GPa.同时,临界载荷也增大42.8mN,且残余应力减小约-0.7GPa.沉积温度的提高不仅使具有超晶格结构的ZrB2/W纳米多界面发生原子散,增强了沉积原子迁率,致其真实的原子密度提高,起位错钉扎的作用,同时晶粒尺度也被限制在纳米尺度,这些均对提高薄的硬度起作用.
- 刘孟寅谭明刘广庆王海媛薛凤英邓湘云李德军
- 关键词：离子束辅助沉积多层膜调制周期沉积温度
