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等离子体
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排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
等离子体
被引量:1
2013年
由
离子
和电子为主构成的物质状态,称为
等离子体
。高温
等离子体
指的是电子与
离子
的温度都在百万摄氏度以上,并且气
体
中所有的原子几乎都被电离。所以,把高温
等离子体
又称为完全电离
等离子体
。如果产生
等离子体
的气
体
元素是较重的元素像氩、氧、氮和乙炔
等
。这时较重元素的
离子
温度较低,一般在十万摄氏度以下,并且是非完全电离的。我们把这团由电子、
离子
和中性原子,甚至中性分子、自由基混合而成的
等离子体
称为低温
等离子体
。应用
等离子体
刻蚀技术在硅片上能刻出非常狭的沟漕,从而制造出大规模集成电路。
朱兴尧
关键词:
等离子体
刻蚀技术
受控热核聚变
托卡马克
等离子体
装置
本发明提供能够进行与漏电电流的产生状况对应的通知的
等离子体
装置。本公开的
等离子体
装置具备:电极,通过放电而产生
等离子体
;电源装置,生成向电极供给的电力;电力线缆,从电源装置向电极供给电力;漏电检测装置,检测电力线缆的漏电...
泷川慎二
神藤高广
等离子体
处理装置
本发明的
等离子体
处理装置包括馈电线圈、受电线圈、至少一个金属壳
体
和至少一个铁氧
体
部件。馈电线圈设置在
等离子体
处理腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个金属壳
体
能够提供屏蔽空...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理装置
本发明的
等离子体
处理装置包括馈电线圈、受电线圈和至少一个驱动系统。馈电线圈设置在
等离子体
处理腔室的外部。受电线圈与蓄电部电连接,能够通过电磁感应耦合从馈电线圈接收电功率。至少一个驱动系统能够使馈电线圈和受电线圈中的至少一...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理装置
本发明提供一种能够获得均匀的
等离子体
空间的
等离子体
处理装置。
等离子体
处理装置包括:处理容器、载置台、遮护部件、开口用的可升降的闸门、第1驱动部和第2驱动部。处理容器具有侧壁,在该侧壁形成有被处理
体
的搬入搬出用的输送通路。...
砂金优
等离子体
处理装置
一种
等离子体
处理装置,包括:反应腔;气
体
喷淋头,设于所述反应腔的顶部;下电极组件,设于所述反应腔内的底部,所述下电极组件与所述气
体
喷淋头相对设置;导电的移动环,设于所述气
体
喷淋头的外围,可上下移动;接地的
等离子体
约束环,...
张一川
田宁
叶如彬
一种
等离子体
装置
本申请提供了一种
等离子体
装置,包括:反应器和软管;反应器包括气
体
入口、喷口和电极;电极用于连接电源,气
体
入口用于连接反应气
体
,反应器用于产生
等离子体
;喷口连接软管的第一端,软管的第二端用于喷出
等离子体
射流。本申请提供的
等
...
闫旭
李储忠
等离子体
处理装置
本发明的
等离子体
处理系统包括第一
等离子体
处理装置和第二
等离子体
处理装置。第一
等离子体
处理装置和第二
等离子体
处理装置各自包括
等离子体
处理腔室、基片支承部、电功率消耗部件、接地框、蓄电部、受电线圈、和整流平滑部。接地框与
等
离...
永岛望
吉越大祐
山形邦彦
等离子体
处理装置
本发明实现一种能够简易地调整天线的高度的
等离子体
处理装置。
等离子体
处理装置(1)包括:外侧罩(20),以将设置于壳
体
(10)的第一开口部(12)闭塞的方式安装于壳
体
;内侧罩(30),将处理室(11)与外侧罩之间分割;天线...
藤原将喜
酒井敏彦
东大介
等离子体
生发梳
本发明公开了一种
等离子体
生发梳,包括壳
体
和
等离子体
发生组件,壳
体
具有安装腔,安装腔内安装有主控板。
等离子体
发生组件包括PCB板、电导线以及隔离套,电导线与主控板电性连接并向上延伸至壳
体
外部,PCB板设置于电导线的上端并与...
张让明
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李坚
作品数:344
被引量:809
H指数:16
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作品数:136
被引量:267
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