搜索到 篇“ 移相掩模技术 “的相关文章

相关作者

陈宝钦
作品数：199被引量：274H指数：9
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
韩安云
作品数：6被引量：4H指数：2
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：移相掩模 T形栅 光刻 移相掩模技术 PEL
付兴昌
作品数：131被引量：46H指数：4
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：衬底 场效应晶体管 氧化镓 谐振器 沟道
孙希国
作品数：8被引量：11H指数：2
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：HEMT MMIC GAAS KA波段 INP
陆晶
作品数：7被引量：7H指数：2
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束直写 电子束光刻 光学 微光刻技术 电子束曝光系统