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离子束照射装置
本发明涉及一种离子束照射装置，所述离子束照射装置不使用灯具加热器或钨丝等的发热体，而可在广范围加热真空容器壁面，以使水成分挥发。本发明的离子束照射装置在开放至大气后的基板处理前，对构成离子束的输送路的真空容器壁面扫描离子...
藤本龙吾国立圭一
扫描离子束蚀刻
本公开提供一种在晶片蚀刻或沉积工艺期间校正不对称的方法，包括：‑从等离子体源105产生等离子体，所述等离子体源包括等离子体腔室110和离子提取栅格系统150，所述离子提取栅格系统被配置成从所述等离子体产生离子束，所述离子...
萨尔帕加拉·H·海格德文森特·李
二维离子束偏转装置
本发明提供一种二维离子束偏转装置，其包括：x轴偏转极板、透镜极板组件、y轴偏转极板；所述x轴偏转极板、透镜极板组件、y轴偏转极板沿离子束传输方向依次设置，所述x轴偏转极板和y轴偏转极板上施加有偏转电压，所述透镜极板组件接...
黄晓刘毅范荣荣张伟朱辉
离子束照射装置
本发明涉及一种离子束照射装置，使在可动式的射束电流计测器(7)中的驱动机构的设计变得简便，同时可逐回从射束计测部位所释放出的二次电子。本发明的离子束照射装置(IM)具有：射束电流计测器(7)，其可在射束轨道(IB)进出而...
山元彻朗
离子束沉积系统
本发明公开了一种离子束沉积系统，包括载片台和压环，所述压环位于所述载片台的上方，并能够沿所述载片台的轴线方向移动；还包括：比较片盘，其呈环状结构且设于所述载片台的外周，所述比较片盘沿其周向具有多个安装比较片的片位；所述压...
桑康陈龙保胡冬冬程实然刘朋飞王铖熠耿斌许开东
一种IBE离子束刻蚀装置
本发明公开了一种IBE离子束刻蚀装置，包括：真空室，所述真空室上方安装真空泵组件，真空室后壁安装离子束发生装置，真空室左侧安装旋转驱动结构，真空室内部转动设置刻蚀载台，旋转驱动结构驱动连接刻蚀载台，真空室右侧壁开设晶圆进...
杜宝胜罗瑞旭孙家晟
一种离子束流调节装置
本实用新型涉及一种离子束流调节装置，包括有安装件，安装件上垂直地密封连接有两个真空外壳；两个真空外壳相对设置，两个真空外壳之间形成供离子束通过的空间；在每一个真空外壳内均安装设置有一个钢磁极，每一个钢磁极上均沿长度方向分...
陈炯
一种离子束刻蚀挡板装置
本发明公开了一种离子束刻蚀挡板装置，属于半导体技术领域，包括反应腔体、载台片、挡板、挡板驱动件、离子源和固定罩，所述反应腔体的内部一端设有挡板，且挡板通过挡板驱动件进行控制；所述挡板设置于所述离子源的栅网口与所述载台片之...
汪明刚张学飞瞿鑫贾中华
离子束照射装置的清洗方法
本发明提供一种离子束照射装置的清洗方法，是能够提前使束线内的颗粒减少并稳定化的有效且高效的清洗方法。所述清洗方法是采用含卤气体对被处理物进行离子束照射处理的离子束照射装置中的清洗方法，向被照射物照射含氢气体由来的离子束后...
藤本龙吾国立圭一
引出带状离子束的离子源
本申请涉及一种引出带状离子束的离子源，包括长方体结构的弧腔以及设于弧腔外部的磁场结构；弧腔的第一侧面上设有微波窗和进气口，微波窗用于向弧腔内导入微波能量，进气口用于向弧腔内部通入气体；弧腔的第二侧面上设有引出带状束离子的...
朱昆颜学庆蔡实现黄维
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周林
作品数：139被引量：241H指数：10
供职机构：国防科学技术大学
研究主题：离子束 面形误差 光学镜面 离子束加工 光学零件
柳襄怀
作品数：140被引量：567H指数：12
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：离子束 离子束增强沉积 离子束辅助沉积 离子注入 电子发射
解旭辉
作品数：156被引量：519H指数：12
供职机构：国防科学技术大学
研究主题：离子束 面形误差 离子束加工 光学镜面 光学零件
戴一帆
作品数：561被引量：1,490H指数：19
供职机构：国防科学技术大学
研究主题：面形误差 磁流变抛光 离子束 光学零件 抛光
洪义麟
作品数：186被引量：402H指数：11
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线