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快速退火设备
本发明公开了一种快速退火设备，所述快速退火设备包括壳体、样品台、蒸镀源、挡板和脉冲组件，壳体具有蒸镀腔和退火腔，壳体上设有与退火腔连通的开口，样品台可封堵在开口处并可从开口处移除，样品台邻近退火腔的一侧用于固定样品，蒸镀...
吴瑶王彩霞墙子跃赵晓霞宗军
一种半自动高温快速退火设备
一种半自动高温快速退火设备，包括退火炉、门板、石英支架、限位组件和底座门板设置在退火炉的侧面，石英支架安装在门板上且正对着退火炉的退火腔室，石英支架上设有限位组件，其中，所述限位组件包括盖板、联动组件和伸缩杆，盖板位于石...
杨锋吴承岩喻杰
一种半自动快速退火炉设备
本发明公开了退火炉技术领域的一种半自动快速退火炉设备，包括机架，机架前方位置固定连接有控制面板，控制面板用于各部件动作逻辑的主控制；机架内固定连接有强电控制模块和弱电控制模块，强电控制模块主要包括主电源的接入；机架内固定...
苏宜鹏冼健威侯振健
一种轴承钢管快速退火装置及工艺
本发明公开了一种轴承钢管快速退火装置及工艺，应用在轴承钢管退火技术领域，本发明通过设置内罩与外罩的配合使用，可以在内罩内部充斥100％氢气，借助氢气的导热性质，从而可以配合循环扩散组件使用，使得以循环扩散组件的高速旋转形...
赵健
一种等离子体快速退火装置及退火方法
本申请公开了一种等离子体快速退火装置及退火方法，涉及金属退火技术领域。其包括反应腔体、抽气组件、组合气源、发生件以及传送组件，反应腔体具有两端开口的内置通道，以便基材穿过，抽气组件用于控制反应腔体内的压力，组合气源与反应...
肖锋周朝阳张佳伟何弈
一种微纳尺度金属样品的快速退火装置及方法
本发明公开了一种微纳尺度金属样品的快速退火装置及方法。分别制备金属压头与微纳尺度金属样品，微纳尺度金属样品置于电学‑力学样品杆固定端，金属压头装载于可移动端，两端相向布置不接触；在透射电子显微镜内，通过压电陶瓷驱动将金属...
王江伟李昂李兴
一种用于晶圆加工的快速退火的设备
本实用新型公开了一种用于晶圆加工的快速退火的设备，属于半导体加工技术领域，本装置主体包括机柜，机柜内部分为上腔体和下腔体，上腔体内设置有退火炉，下腔体内设置有一端穿过机柜侧壁延伸至机柜外侧的进水管，进水管另一端与分配器连...
陈俊佳欧建恒黄嘉伦黄觉辉
一种微波技术加热的快速退火装置
本实用新型公开了一种微波技术加热的快速退火装置，具体涉及退火装置技术领域，包括：微波壳体，所述微波壳体的内部设置有退火腔，且微波壳体的底部安装有多个支撑腿；夹持机构，所述夹持机构包括安装在微波壳体一侧的固定板以及开设在固...
王文寿
一种基于快速退火工艺的单相Nd-Fe-Pd合金磁制冷材料及其制备方法
本发明公开了一种基于快速退火工艺的单相Nd‑Fe‑Pd合金磁制冷材料，通过将Nd‑Fe‑Pd合金铸锭进行甩带处理获得Nd‑Fe‑Pd合金薄带，再进行快速的退火处理得到Nd‑Fe‑Pd磁制冷材料；其成分为单相的Nd<Sub...
杜玉松张利黄国斌成钢李林王江赵景泰饶光辉
一种半导体晶圆快速退火设备
本发明涉及半导体晶圆生产设备技术领域，公开了一种半导体晶圆快速退火设备，包括承托单元与辐射加热装置，承托单元包括承托底板，承托底板上设有配合齿环，承托底板上转动设有承载晶圆的承载单元，承载单元包括转动设置在承托底板上的承...
杨志勇崔令鉉成鲁荣
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朱建国
作品数：408被引量：787H指数：16
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研究主题：无铅压电陶瓷 压电陶瓷 压电性能 铁电薄膜 X
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作品数：45被引量：6H指数：1
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研究主题：氧化钒薄膜 二氧化钒 快速退火 谐振体 氧化钒
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作品数：34被引量：53H指数：4
供职机构：石家庄铁道大学
研究主题：流动图形缺陷 快速退火 大直径 化学共沉淀法 FPDS
王荣飞
作品数：47被引量：2H指数：1
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杨宇
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供职机构：云南大学
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