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化学气相沉积被引量:5
1989年
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)是利用化学反应由气相生长固体物质的方法。一般把反应物是气体而生成物之一是固体的反应称为CVD反应。通常CVD要利用高温或其它激活方法,依靠化学反应制取所需要的薄厚膜。
田民波
关键词:化学气相沉积CVD半导体
热丝化学气相沉积组件
本发明公开一种热丝化学气相沉积组件,热丝化学气相沉积组件包括热丝盒和热丝,热丝盒围绕成型第一腔室,热丝盒包括沿第一方向相对设置的第一侧板和第二侧板;热丝的数量为多个,多个热丝位于第一腔室内并沿第二方向间隔排列,第二方向与...
牛靖凯陈国军王玮刘杰汪海军杨博董伟赵东明李孟蕾王立闯杨斌周颖虞祥瑞陈传科
化学气相沉积方法
本申请属于半导体技术领域,具体涉及一种化学气相沉积方法,用于形成目标膜层,所述化学气相沉积方法包括:在基底上以第一沉积速度沉积基础层,所述基础层的厚度小于所述目标膜层的厚度,所述第一沉积速度小于预设值;在所述基础层远离所...
张盈盈
连续式化学气相沉积设备和方法
本公开涉及化学气相沉积技术领域,特别地涉及一种连续式化学气相沉积设备和沉积方法。设备包括:主体装置和设置在所述主体装置内的传输装置,所述主体装置具有通过所述传输装置依次连接的准备室、反应室和热处理室;气体支持装置,与所述...
朴钟熏崔海珍金锡津
一种等离子体化学气相沉积装置
本发明提供一种等离子体化学气相沉积装置,包括工作台,工作台中间部分固定安装有伸缩气压杆,伸缩气压杆的正后方设置有位于工作台上端的伸缩推杆,伸缩推杆的顶部侧壁上设置有L型支撑柱,工作台上还竖向安装有支撑板,支撑板的侧壁上前...
石雄安游归燕王伟陈俊鸿
微波等离子体化学气相沉积装置
本发明涉及一种微波等离子体化学气相沉积装置,包括:波导装置;反应腔,设置在所述波导装置下方,与所述波导装置连接;冷却罩,与所述反应腔连接,用于对所述反应腔进行风冷散热;屏蔽罩,围设在所述反应腔外部,以防止所述反应腔内的电...
牛进毅苗岱
一种微波等离子体化学气相沉积装置
本发明公开了一种微波等离子体化学气相沉积装置,属于化学气相沉积装置技术领域,包括微波发生器以及与微波发生器相连接的三销钉,所述三销钉出口连接有模式转换器,模式转换器的另外两个出口分别连接有腔体以及短路活塞,所述腔体内设置...
刘永宁赵俊芳
一种等离子体化学气相沉积设备工作台
本实用新型公开了一种等离子体化学气相沉积设备工作台,其技术方案要点是:包括放置盒,所述放置盒的内部活动套设有放置板,所述放置板的顶面固定连接有等离子体化学气相沉积设备;格挡板,所述格挡板活动套设在所述放置盒的内部,所述格...
魏安求逯好峰叶小健
碳硬掩模的等离子体增强化学气相沉积
在一个或多个实施例中,一种用于通过等离子体增强化学气相沉积(PECVD)来沉积碳硬掩模材料的方法包括:将容纳在工艺腔室内的基板加热到在从约100℃至约700℃的范围内的温度;以及用发出大于3kW的RF功率的功率发生器产生...
B·S·权P·K·库尔施拉希萨K·D·李B·阿夫扎尔S·哈V·K·普拉巴卡尔V·卡尔塞卡尔S·托卡奇丘爱德华四世·P·哈蒙德
一种工件支撑点切换装置及化学气相沉积
本发明公开了一种工件支撑点切换装置,涉及化学气相沉积技术领域,包括封头组件;支撑组件设置于所述封头组件上,所述支撑组件包括位于所述封头组件上方的多个支撑柱,所述支撑柱用于支撑工件;换位组件包括高度切换驱动和多个换位部,所...
刘鹏徐文立陈可杰李婷

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汪建华
作品数:372被引量:850H指数:12
供职机构:武汉工程大学材料科学与工程学院
研究主题:化学气相沉积 金刚石薄膜 金刚石膜 微波等离子体 金刚石
韩高荣
作品数:1,299被引量:1,718H指数:19
供职机构:浙江大学
研究主题:SUB 钛酸铅 矿化剂 二氧化钛 镀膜玻璃
刘忠范
作品数:488被引量:827H指数:17
供职机构:北京大学
研究主题:石墨烯 化学气相沉积 单壁碳纳米管 碳纳米管 自组装膜
马志斌
作品数:207被引量:391H指数:9
供职机构:武汉工程大学
研究主题:金刚石薄膜 金刚石 微波等离子体化学气相沉积 化学气相沉积 单晶金刚石
成会明
作品数:1,036被引量:1,407H指数:23
供职机构:中国科学院金属研究所
研究主题:石墨烯 单壁碳纳米管 纳米碳管 碳纳米管 生长促进剂