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光刻机
本申请实施例公开了一种光刻机，该光刻机包括框架、载台、掩模版、照明系统，载台呈水平的固定于框架上，掩模版可移动的设置于载台上方，照明系统设置于掩模版远离载台的一侧，照明系统射出的光线穿过掩模版照射到载台；其中，光刻机还包...
段淼朱钦富李林霜陈黎暄
一种光刻机
本发明公开一种光刻机，属于半导体制造设备技术领域，包括光源系统、掩膜板装载台和硅片工件台，所述掩膜板装载台位于所述硅片工件台和所述光源系统之间，还包括：隔离罩，所述隔离罩位于所述掩膜板装载台背离光源系统的一侧且与掩膜板装...
王凯诚牛志元丛敏谢稳秦宏鹏程智盛乃援徐兴燃傅俊隆
一种光刻机
本发明公开一种光刻机，其中，所述光刻机包括主体、光刻装置以及供气装置，所述主体开设有一无尘腔；所述光刻装置包括容置于所述无尘腔内的工作舱，所述工作舱密闭设置；所述供气装置设置于所述无尘腔内，且与所述工作舱连通，以维持所述...
刘欢
一种激光光刻机
本实用新型公开了一种激光光刻机，涉及光刻机领域。该激光光刻机包括控制模块、视觉检测模块及激光刻蚀模块，视觉检测模块及激光刻蚀模块分别与控制模块电连接，视觉检测模块用于获取工件上刻蚀线末端的位置信息，控制模块用于根据位置信...
付超施陈杰马显
散射电子光刻机
本发明的电子光刻机，是由透射过光掩膜的散射电子流使硅片上的光刻胶发生电子光反应，或透射过光掩膜或由光掩膜反射的散射电子流经磁透镜聚焦成像于硅片上的光刻胶使硅片上的光刻胶发生电子光反应的散射电子光刻机。散射电子光刻机所采用...
王蔚瑾
一种浸没光刻机
本发明涉及一种浸没光刻机，包括：激光器，发射激光束；多组透镜，设置在激光器和浸没室之间，用于聚焦和准直激光器发出的激光束；浸没室，设置在透镜与掩膜之间，或设置在掩膜与晶圆之间，其内填充高折射率介质；掩膜，设置在浸没室下方...
陈会斌邱杰振颜天才田锋李承哲胡翔陈呈
全自动投影光刻机
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种全自动投影光刻机，包括机架，机架上安装有平台，平台上安装有X轴直线电机和立柱，X轴直线电机上安装有Y轴直线电机，Y轴直线电机上安装有浮动机构，立柱上设有安装台，安装台的上端面上设有...
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
一种光刻机整平装置
本实用新型公开了一种光刻机整平装置，涉及光刻机工装领域，包括可承载硅片移动的承载板，所述承载板的前、后两端均设置有可调节位置的压平杆，所述压平杆的底部呈圆弧状，用于贴合硅片的工艺边，所述压平杆上可拆卸安装有控制板，所述控...
薛业保章广飞王运钢李文静
手动双工位光刻机
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种手动双工位光刻机，包括机架，机架上设有固定平台和回转平台，固定平台上设有龙门架和光源安装架，龙门架上设有左对位镜头和右对位镜头，光源安装架上设有平行光源，回转平台上对称设有两个工位...
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
调节结构及光刻机
本申请提供一种调节结构及光刻机，涉及光刻工艺技术领域。调节结构包括工作板、伸缩件、固定板和弹性件，所述工作板的一侧设有光源，所述伸缩件的一端与所述工作板背离所述光源的一侧连接，所述固定板与所述伸缩件远离所述工作板的一端连...
杨武李响
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王向朝
作品数：825被引量：1,352H指数：19
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻机 投影物镜 波像差 干涉仪 掩模
朱煜
作品数：566被引量：813H指数：16
供职机构：清华大学
研究主题：光刻机 平面电机 工件台 六自由度 气浮轴承
胡松
作品数：468被引量：436H指数：8
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光刻机 工件台 光刻 掩模 生物芯片
张鸣
作品数：400被引量：279H指数：10
供职机构：清华大学
研究主题：光刻机 六自由度 平面电机 位移测量系统 工位
黄惠杰
作品数：491被引量：654H指数：16
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻机 起偏器 光刻 照明系统 测量方法